[实用新型]一种多层结构的氧化锡锑隔热材料有效
申请号: | 201720295910.6 | 申请日: | 2017-03-24 |
公开(公告)号: | CN206953697U | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 樊晓东;王晓东;修志浩 | 申请(专利权)人: | 南昌专腾科技有限公司 |
主分类号: | B32B3/28 | 分类号: | B32B3/28;B32B9/00;B32B9/04;B32B37/15;C04B30/00;C04B38/10;C04B38/02 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 喻莎 |
地址: | 330096 江西省南昌市南昌高新技术产*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 多层 结构 氧化 隔热材料 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种隔热材料,具体涉及一种多层结构的氧化锡锑隔热材料。属于隔热材料技术领域。
背景技术
在太阳光能量分布中,可见光和近红外波段占了绝大部分的能量,分别占总能量的44%和51%,当太阳光被物体吸收时,光能就转换为热能,市场上的隔热材料通过提高对可见光和近红外波段的太阳光反射率来达到降温的目的,从源头上阻止热量的传递,有效降低隔热材料表面和内部环境温度,从而达到改善工作环境,降低能耗等目的,因而被广泛应用于建筑、石油、运输、航天等领域。
隔热材料可分成三类:热反射材料、多孔材料和真空材料。热反射材料是将热量发射出去,具有很高的反射指数;多孔材料本身有很多孔隙,孔隙内的空气导热系数很低,从而通过孔隙隔热;真空材料是利用材料内部的真空阻隔对流达到隔热目的。
氧化锡锑具有优异的隔热性和红外阻隔性,可广泛用于隔热材料领域,但是现有的氧化锡锑并不能满足越来越高的隔热要求。
发明内容
本实用新型的目的是为克服上述现有技术的不足,提供一种多层结构的氧化锡锑隔热材料。
为实现上述目的,本实用新型采用下述技术方案:
一种多层结构的氧化锡锑隔热材料,由上而下包括上层、支撑层和下层,所述支撑层具有瓦楞结构。
优选的,所述上层的厚度为20~50μm。
优选的,所述下层的厚度为20~50μm。
优选的,所述支撑层的高度为100~200μm。
上述的一种多层结构的氧化锡锑隔热材料的制备方法,包括步骤:
(1)制备表层阻隔层:将纳米氧化锡锑粉、粉煤灰和去离子水混合均匀,得悬浮液,调节pH至8~10,超声处理1~2小时,加入分散剂,高速剪切分散,采用流延法制成厚度为20~50μm的表层阻隔层;
(2)制备支撑层:将纳米氧化锡锑粉、粉煤灰和去离子水混合均匀,得悬浮液,调节pH至8~10,超声处理1~2小时,加入分散剂,高速剪切分散,加入发泡剂,搅拌2~4分钟,搅拌完后浇注到瓦楞形模具中,常温养护4~6小时,得到瓦楞形的支撑层;
(3)采用共挤的方式将步骤(1)的表层阻隔层分别复合到步骤(2)所得支撑层的上层和下层,即得。
优选的,步骤(1)中,纳米氧化锡锑粉、粉煤灰、分散剂和去离子水的质量体积比为1g:0.5~0.8g:0.2~0.5g:20~30mL。
优选的,步骤(2)中,纳米氧化锡锑粉、粉煤灰、分散剂、发泡剂和去离子水的质量体积比为1g:0.5~0.8g:0.2~0.5g:0.1~0.2g:20~30mL。
进一步优选的,所述分散剂选自三聚磷酸钠、六偏磷酸钠、聚丙烯酸钠、阴离子表面活性剂5050或非离子型分散剂3275中的任一种。
进一步优选的,所述发泡剂是十二烷基苯磺酸钠和双氧水以质量比1:2混合而得。
优选的,步骤(1)和(2)中通过浓氨水调节pH值。
优选的,步骤(1)和(2)中高速剪切分散的时间为1~2小时。
本实用新型的有益效果:
本实用新型的隔热材料为多层结构,由上而下包括上层、支撑层和下层,并且支撑层具有瓦楞结构,瓦楞结构在上层与下层之间形成类似孔洞的构造,起到了阻隔隔热的作用,结合上层、下层以及支撑层所使用的以氧化锡锑为主的反射隔热材料,起到更佳的隔热作用。经测试,本实用新型的隔热材料具有极佳的隔热性能。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图;
其中,1为上层,2为支撑层,3为下层。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进行进一步的阐述,应该说明的是,下述说明仅是为了解释本实用新型,并不对其内容进行限定。
实施例1:
如图1所示,本实用新型的一种多层结构的氧化锡锑隔热材料,由上而下包括上层1、支撑层2和下层3,支撑层3具有瓦楞结构。
上层1的厚度为20μm。下层3的厚度为20μm。支撑层2的高度为100μm。
上述的一种多层结构的氧化锡锑隔热材料的制备方法,包括步骤:
(1)制备表层阻隔层:将纳米氧化锡锑粉、粉煤灰和去离子水混合均匀,得悬浮液,调节pH至8,超声处理1小时,加入分散剂,高速剪切分散,采用流延法制成厚度为20μm的表层阻隔层;
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