[实用新型]一种钻石丸片抛光垫修整轮治具

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光（CMP）设备技术领域，具体涉及一种抛光垫修整轮治具。

背景技术

化学机械抛光（CMP）是指利用机械化学的作用使工件表面粗糙度降低，以获得光亮、平整表面加工方法，是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行修饰加工的方法。化学机械抛光（CMP）技术广泛用于光学、窗口平面产品的抛光加工，既能实现高平坦化又能够达到高精度表面质量。随着平面光学应用及窗口领域的发展，对产品加工质量要求越来越高，成本要求越来越低，提高产品质量、提升生产效率成为行业内企业的主要挑战之一。

抛光垫是化学机械抛光设备中的关键部件之一，抛光垫的性能对抛光效率和加工质量有着重要影响。对抛光垫进行适当的修整可以增加抛光垫表面的平整度、使材料去除率趋于一致，提高产品质量、提升生产效率。现有行业上对抛光垫的修整主要采用不锈钢修整轮与铸铁两种材质修整轮，其修整时间长效率低、效果差，使抛光垫抛光后的产品的平坦度和精度达不到质量要求，从而导致加工良品率低，成本居高不下。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种钻石丸片抛光垫修整轮治具，对抛光垫平整度修整效果、效率显著提升，大大降低了加工成本。

为实现上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种钻石丸片抛光垫修整轮治具，其特征在于，包括不锈钢基体，所述不锈钢基体为圆环状结构，所述不锈钢基体的外圆周侧面均匀分布200个平齿，所述平齿的齿顶圆直径为427mm，所述平齿的齿中圆直径为423mm，所述平齿的齿内圆直径为417mm；所述不锈钢基体中心设有通孔，所述通孔的内圆直径为300mm，所述通孔的边缘设置有半圆倒角，所述半圆倒角的直径为10mm；所述不锈钢基体的正面设有外圆凹槽组和内圆凹槽组，所述外圆凹槽组和所述内圆凹槽组分别由圆形凹槽构成，所述圆形凹槽的直径为16mm深度为2mm，所述外圆凹槽组由均匀分布的32个所述圆形凹槽构成，所述外圆凹槽组的凹槽圆心均落在所述不锈钢基体直径为390mm的圆周上，所述内圆凹槽组由均匀分布的24个所述圆形凹槽构成，所述内圆凹槽组的凹槽圆心均落在所述不锈钢基体直径为340mm圆周上；所述圆形凹槽内均分别粘贴直径为16mm的钻石丸片；所述不锈钢基体的反面均匀设置有四个沟槽；

上述的一种钻石丸片抛光垫修整轮治具，其中，所述不锈钢基本的厚度为25mm；

上述的一种钻石丸片抛光垫修整轮治具，其中，所述钻石丸片的高度为5.5mm、粒度为100#；

上述的一种钻石丸片抛光垫修整轮治具，其中，所述沟槽的宽度为4mm，深度为4mm，长度为127.5mm。

本实用新型的有益效果表现在：

本实用新型提供的一种钻石丸片抛光垫修整轮治具，包括不锈钢基体，不锈钢基体的外圆周侧面设置有平齿，内部设置有同心通孔，且在不锈钢基体上粘贴有钻石丸片，三者相互配合，互相作用，使对抛光垫修整的效果明显提高，传统的修整轮治具的修正时间约为3小时，采用本实用新型的修整轮治具后的修整时间为20分钟，大大提高了修整效率，显著的降低成本；在修整轮治具的背面设有四个沟槽，促进修整液在整个修整轮治具的流动，增强修整效果，并且带走因摩擦产生的热量，而且本实用新型的设计合理，结构简单，实用性高。

附图说明

图1 本实用新型主视图。

图2 本实用新型A-A向剖视图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型做出具体的说明。