[实用新型]一种磁场可调的磁控溅射涂层系统有效

专利信息
申请号: 201720140439.3 申请日: 2017-02-16
公开(公告)号: CN206428321U 公开(公告)日: 2017-08-22
发明(设计)人: 张建明;金章斌;邓晓良 申请(专利权)人: 苏州吉恒纳米科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/54
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市工业园*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 磁场 可调 磁控溅射 涂层 系统
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及涂层技术领域,特别涉及一种磁场可调的磁控溅射涂层系统。

背景技术

目前,一般的真空涂层设备采用固定式永磁场系统。磁场系统是整个涂层设备的重要组成部分。磁场的分布和强弱直接影响着气体离化率、溅射率及沉积速率。磁场的强弱又取决于靶材和对应磁铁的距离。距离越近,磁场越强,距离越远,磁场越弱。另外,靶材的消耗也会影响磁场的强度。磁场减弱后,轰击靶材力度减弱,电子螺旋线状运行的半径减小,从而减小电子和靶材撞击的概率,气体离化率会降低,导致二次电子减少,电压明显升高,溅射产额降低,从而降低沉积速率。磁场增强后,轰击靶材力度增强,磁控靶的阴极工作电压会随着靶面磁场的增加而降低,也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而降低。溅射电流也随着靶面的溅射刻蚀槽加深而加大,从而导致靶材的利用率降低,同时因沉积速率的加快,涂层的均匀性得不到保障。

因此,传统涂层设备无法在工艺过程中控制磁场强度,从而很难控制溅射率、沉积速率等各项参数,以至于涂层的一致性和均匀性难以保证。

发明内容

为解决上述技术问题,本实用新型的目的在于提供一种磁场可调的磁控溅射涂层系统,可以实现对磁场强度的调控,从而可以控制气体离化率、溅射率及沉积速率,进而保障涂层的一致性和均匀性。

为实现上述技术目的,达到上述技术效果,本实用新型通过以下技术方案实现:一种磁场可调的磁控溅射涂层系统,包括真空腔室、靶材、磁铁、步进电机、直流脉冲电源和PLC单元,靶材设置于真空腔室中,磁铁设置于靶材的后方,步进电机连接有齿轮传动机构,该齿轮传动机构连接有连杆机构,连杆机构又与磁铁连接,步进电机通过齿轮传动机构和连杆机构的配合带动磁铁前后移动,该直流脉冲电源具有负极、正极、电源控制端口和电源通信端口,真空腔室上设有阴极和阳极,直流脉冲电源的负极与阴极连接,直流脉冲电源的正极与阳极连接,该PLC单元包括CPU、通信模块、输入模块和输出模块,直流脉冲电源的电源通信端口通过profibus总线与PLC单元的通信模块连接,直流脉冲电源的电源控制端口通过profibus总线与PLC单元的输出模块连接,所述步进电机具有电机控制端口和电机通信端口,PLC单元的通信模块通过profibus总线与步进电机的电机通信端口连接,PLC单元的输出模块通过profibus总线与步进电机的电机控制端口连接。

进一步的,该真空腔室连接有冷却水进水管和冷却水出水管。

进一步的,所述齿轮传动机构包括主动齿轮、从动齿轮和传动带,该主动齿轮与步进电机连接,传动带连接于主动齿轮和从动齿轮之间。

进一步的,所述CPU与PC连接。

本实用新型的有益效果是:本实用新型中的直流脉冲电源的电源通信端口通过profibus总线与PLC单元的通信模块连接,直流脉冲电源的电源控制端口通过profibus总线与PLC单元的输出模块连接,从而通过直流脉冲电源的电压信号控制PLC单元的输出模块信号,而PLC单元的通信模块又通过profibus总线与步进电机的电机通信端口连接,PLC单元的输出模块又通过profibus总线与步进电机的电机控制端口连接,从而可以通过PLC单元的输出模块的输出电压信号,实现对步进电机的移动行程的控制,以实现对靶材与磁铁之间的距离的调整,从而实现对磁场强度的调整控制,最终控制气体离化率、溅射率及沉积速率,保障涂层的一致性和均匀性。

附图说明

图1为本实用新型的一种磁场可调的磁控溅射涂层系统的示意图。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型的较佳实施例进行详细阐述,以使本实用新型的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解,从而对本实用新型的保护范围做出更为清楚明确的界定。

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