[实用新型]一种磨抛治具

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种磨抛治具。

背景技术

目前传统的玻璃、宝石、陶瓷材质桥面磨抛加工方式为单个加工，效率低下且抛光面弧度难以保证。在目前智能手表的日趋流行与普及，对玻璃、宝石、陶瓷材质抛光需求量增大。对磨抛加工的生产效率和加工精度也提出了更高的要求。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术的不足而提供了一种结构及操作简单，成本较低，加工弧面精准，生产效率高的一种磨抛治具。

本实用新型采用如下技术方案实现：一种磨抛治具，包括滚筒，所述滚筒的两侧设有带动滚筒绕轴心旋转的转轴，所述滚筒的外表面上均匀布满多个与产品大小相匹配的产品型腔，所述滚筒外表面上设有磨头，所述磨头的一侧为磨抛层与安装在产品型腔内的产品待抛磨面接触，另一侧安装在往复运动机构上，所述往复运动机构带动磨头沿滚筒轴向往复运动。

所述磨头上的磨抛层与磨头为可拆卸式连接，方便对磨抛层的更换。

所述磨头与往复运动机构为可拆卸式连接，方便对磨头的更换。

所述磨头与面向产品的侧面为与滚筒相匹配的弧面，保证磨头上磨抛层与产品充分接触，保证磨抛的质量。

由于采用上述结构，本实用新型通过在滚筒上布设多个产品型腔，从而通过一个磨头可以一次加工多个产品，产品可以通过粘蜡方式固定在产品型腔内，在滚筒旋转的同时磨头沿滚筒轴向左右摆动，保证可以适应不同尺寸的滚筒，保证可以加工滚筒上的每个产品，综上所述，本装置结构及操作简单，成本较低，加工弧面精准，生产效率高。

附图说明

图1为本实用新型的立体图。

图2为本实用新型在主视图。

附图中，1-产品型腔，2-往复运动机构，3-磨头，4-滚筒，5-顶针孔，6卡槽，7-磨抛层。

具体实施方式

以下结合附图和具体实施方式对本实用新型做进一步的说明。

如图1、2所示，一种磨抛治具，包括滚筒4，所述滚筒4的两侧设有带动滚筒绕轴心旋转的转轴，所述转轴上设有卡槽6和顶针孔5，将滚筒4通过转轴安装在自动旋转机上，自动旋转机的顶针与顶针孔5和卡槽6固定用来转动滚筒4，所述滚筒4的外表面上均匀布满多个与产品大小相匹配的产品型腔1，所述滚筒3外表面上设有磨头3，所述磨头3的一侧为磨抛层7与安装在产品型腔1内的产品待抛磨面接触，另一侧安装在往复运动机构2上，所述往复运动机构2带动磨头沿滚筒轴向往复运动。

抛磨工艺如下：

粘蜡：通过粘蜡方式将产品固定在产品型腔1内。

外圆粗磨：将滚筒4通过顶针孔5和卡槽6安装在外圆磨床上，通过外圆磨床加工产品，使用滚筒外径(包含产品)达成相应数值。

粗抛：将滚筒4安装在自动旋转机上，通过滴液器将钻石液自动搅拌，设置参数滴液3-5s/滴，滚筒4正反转各30min，转速30-50r/min,粗抛磨头7左右摆30-50r/min，开启机器，根据程序完成低压低速，高压低速，高压高速，低压高速四个过程；加工时间1h，达成相应尺寸管控(外径＝2X产品R+0.02，单位mm)，抛光面粗糙度＜20nm，完成粗抛。

进一步的，精抛：将滚筒4安装在自动旋转机上，抛光液对准磨头3，滚筒4正反转各30min，转速30-50r/min,磨头3左右摆动30-50r/min，开启机器，根据程序完成低压低速，高压低速，高压高速，低压高速四个过程；加工1h达成相应数值(外径＝2X产品R，单位mm)，抛光面粗糙度＜1nm的抛光工艺要求，完成精抛。

进一步的，采用脱蜡剂清洗，清水清洗烘干，完成加工。

以上所述，仅为本实用新型具体实施案例说明，不能以此限定本实用新型的权利保护范围。凡根据本实用新型申请权利要求书及说明书内容所作的等效变化与修改，皆在本实用新型保护的范围内。