[实用新型]药剂废水处理装置有效
申请号: | 201720106770.3 | 申请日: | 2017-01-27 |
公开(公告)号: | CN206428114U | 公开(公告)日: | 2017-08-22 |
发明(设计)人: | 路俊华 | 申请(专利权)人: | 路俊华 |
主分类号: | C02F9/08 | 分类号: | C02F9/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 255000 山东省淄博市张*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 药剂 废水处理 装置 | ||
技术领域
本实用新型属于废水处理装置技术领域,具体涉及一种药剂废水处理装置。
背景技术
众所周知,医院会产生较多的废水,但是由于来源不同,废水中含有的物质则不尽相同。目前医院一般是将所有废水集中处理,存在成本高、针对性不强等缺点。
药剂实验产生的废水中含有酸、碱、有机污染物、重金属离子、病原微生物等等,异味大,颜色深,处理难度高,需要采用处理效果好,针对性强的废水处理装置。
实用新型内容
根据以上现有技术中的不足,本实用新型要解决的技术问题是:提供一种结构简单、针对性强、处理效果好的药剂废水处理装置。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:
所述的药剂废水处理装置,包括集水箱,还包括第一沉淀池、pH调节池、双氧水反应池、第二沉淀池、第一次氯酸钠反应池、第三沉淀池、氯气、紫外线联合消毒池、储水池、污泥池,其中,集水箱与第一沉淀池、pH调节池、双氧水反应池、第二沉淀池、第一次氯酸钠反应池、第三沉淀池、氯气、紫外线联合消毒池、储水池依次相连;第一沉淀池的底部、第二沉淀池的底部、第三沉淀池的底部均与集水箱相连,储水池的底部连接污泥池,污泥池也与集水箱相连。
其中:
第一次氯酸钠反应池、第三沉淀池之间设置第二次氯酸钠反应池。所述的第二次氯酸钠反应池的设置提高了氧化处理的效果。
所述的第一沉淀池的底部、第二沉淀池的底部、第三沉淀池的底部、储水池的底部会形成污泥,将这些污泥回用到集水箱进行循环处理,实现了污泥减量化,有利于污泥的回收利用。
废水由集水箱进入第一沉淀池后,再进入pH调节池,调整废水pH值至7~8,随后进入双氧水反应池,向其中加入H2O2,之后进入第二沉淀池,再依次经第一次氯酸钠反应池、第三沉淀池、氯气、紫外线联合消毒池后,最后进入储水池,储水池中的水直接排放即可。
本实用新型所具有的有益效果是:
本实用新型通过三级沉淀以及双氧水氧化、次氯酸钠氧化保证了处理效果。第一级沉淀是处理前的絮凝沉淀,然后是采用双氧水反应后,进行第二级沉淀,最后是次氯酸钠反应后,进行第三级沉淀。三级沉淀再加上双氧水、氯酸钠的氧化处理,使得处理后的废水,由浑浊变为无色透明,无异味,处理效果显著,COD去除率达到93%,完全达到排放标准。本实用新型结构简单、针对性强,操作容易。
附图说明
图1是本实用新型结构示意图;
图中:1、集水箱;2、第一沉淀池;3、pH调节池;4、双氧水反应池;5、第二沉淀池;6、第一次氯酸钠反应池;7、第二次氯酸钠反应池;8、第三沉淀池;9、氯气、紫外线联合消毒池;10、储水池;11、污泥池。
具体实施方式
下面结合附图对本实用新型的实施例做进一步描述:
如图1所示,所述的药剂废水处理装置,包括集水箱1,还包括第一沉淀池2、pH调节池3、双氧水反应池4、第二沉淀池5、第一次氯酸钠反应池6、第三沉淀池8、氯气、紫外线联合消毒池9、储水池10、污泥池11,其中,集水箱1与第一沉淀池2、pH调节池3、双氧水反应池4、第二沉淀池5、第一次氯酸钠反应池6、第三沉淀池8、氯气、紫外线联合消毒池9、储水池10依次相连;第一沉淀池2的底部、第二沉淀池5的底部、第三沉淀池8的底部均与集水箱1相连,储水池10的底部连接污泥池11,污泥池11也与集水箱1相连。
所述的第一次氯酸钠反应池6、第三沉淀池8之间设置第二次氯酸钠反应池7。
所述的第一沉淀池2的底部、第二沉淀池5的底部、第三沉淀池8的底部、储水池10的底部会形成污泥,将这些污泥回用到集水箱1进行循环处理,实现了污泥减量化,有利于污泥的回收利用。
废水由集水箱1进入第一沉淀池2后,再进入pH调节池3,调整废水pH值至7~8,随后进入双氧水反应池4,向其中加入H2O2,之后进入第二沉淀池5,再依次经第一次氯酸钠反应池6、第二次氯酸钠反应池7、第三沉淀池8、氯气、紫外线联合消毒池9后,最后进入储水池10,储水池10中的水直接排放即可。
本实用新型结构简单、针对性强,操作容易,通过三级沉淀以及双氧水氧化、次氯酸钠氧化保证了处理效果,达到处理目的。三级沉淀分别是:一是处理前的絮凝沉淀,二是双氧水反应后的二级沉淀,三是次氯酸钠反应后的三级沉淀。三级沉淀再加上双氧水、氯酸钠的氧化处理,使得处理后的废水呈无色透明状态,无异味残留,COD去除率高,达到93%。
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