[实用新型]一种隐蔽特征定位装置有效
申请号: | 201720103882.3 | 申请日: | 2017-01-23 |
公开(公告)号: | CN206601497U | 公开(公告)日: | 2017-10-31 |
发明(设计)人: | 蒋洪洲 | 申请(专利权)人: | 金华马卡科技有限公司 |
主分类号: | G01V3/08 | 分类号: | G01V3/08;G01V11/00 |
代理公司: | 杭州华进联浙知识产权代理有限公司33250 | 代理人: | 唐燕 |
地址: | 321300 浙江省金*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 隐蔽 特征 定位 装置 | ||
1.一种隐蔽特征定位装置,包括:
探测模块,所述探测模块生成基于与隐蔽特征位置不同而变化的特征信号;
耦合到所述探测模块的控制器,所述控制器被配置为分析特征信号以检测隐蔽特征;
其特征在于,还包括:
耦合到所述控制器的多个指示器,所述指示器能够在第一状态和第二状态间切换;
耦合到所述控制器的位移传感器,所述位移传感器用于检测所述定位装置的位移;
所述控制器根据位移数据确定隐蔽特征在所述定位装置下方的位置,且将所述指示器中的一个或多个切换为第一状态,使得处于第一状态的指示器标识所述隐蔽特征的位置。
2.根据权利要求1所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于,所述探测模块包括电容探测模块,所述电容探测模块包括:至少一个传感器板,每个传感器板具有基于以下各项而变化的电容:(a)传感器板与一个或多个周围物体的接近度,(b)周围物体的介电常数;耦合到所述传感器板的检测电路,所述检测电路被配置为测量所述传感器板的电容;
所述控制器被配置为分析检测电路的电容值以检测隐蔽特征。
3.根据权利要求2所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述传感器板设置于靠近所述定位装置前和/或后端部位置。
4.根据权利要求1所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述探测模块包括金属探测模块,所述金属探测模块生成基于与具有金属物质的隐蔽特征位置不同而变化的特征信号。
5.根据权利要求1所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述探测模块包括交流电探测模块,所述交流电探测模块生成基于与具有交流电的隐蔽特征位置不同而变化的特征信号。
6.根据权利要求2所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于,所述探测模块还包括:生成基于与具有金属物质的隐蔽特征位置不同而变化的特征信号的金属探测模块,生成基于与具有交流电的隐蔽特征位置不同而变化的特征信号的交流电探测模块;
所述定位装置还包括模式选择模块,用于设置控制器以选取分析电容探测模块、金属探测模块、交流电探测模块中的一个或多个生成的特征信号以检测隐蔽特征。
7.根据权利要求1-6任一所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述多个指示器沿定位装置轴向前后布置。
8.根据权利要求1-6任一所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述多个指示器的轴向距离基本相等。
9.根据权利要求1-6任一所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述位移传感器包括设置于定位装置底部的滚动体,和用于测量并输出滚动体转动数据的测量装置。
10.根据权利要求1-6任一所述的隐蔽特征定位装置,其特征在于:所述位移传感器为光电轨迹传感器。
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