[实用新型]一种机械研磨式抛光设备有效
申请号: | 201720093765.3 | 申请日: | 2017-01-24 |
公开(公告)号: | CN206416017U | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 陈森文;张福海;王志勇 | 申请(专利权)人: | 中山市森美模型科技有限公司 |
主分类号: | B24B29/00 | 分类号: | B24B29/00;B24B41/00;B24B41/02;B24B55/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 528400 广东省中山市*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 机械 研磨 抛光 设备 | ||
技术领域
本实用新型是一种机械研磨式抛光设备,属于机械加工设备领域。
背景技术
抛光机也称为研磨机,常常用作机械式研磨、抛光及打蜡。其工作原理是:电动机带动安装在抛光机上的海绵或羊毛抛光盘高速旋转,由于抛光盘和抛光剂共同作用并与待抛表面进行摩擦,进而可达到去除漆面污染、氧化层、浅痕的目的。抛光盘的转速一般在1500-3000 r/min,多为无级变速,施工时可根据需要随时调整。
现有技术中,抛光设备依然存在着许多不足之处,其结构简单,维修率高,抛光效果差,且适用范围小,传统研磨工艺为人工干式打磨,其缺点为粉尘大,作业环境恶劣,打磨效率低。所以现有的抛光设备已无法满足人们的需要,急需一种机械研磨式抛光设备来解决上述出现的问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种机械研磨式抛光设备,以解决上述背景技术中提出的问题,本实用新型使用方便,抛光效果佳,稳定性好,可靠性高。
为了实现上述目的,本实用新型是通过如下的技术方案来实现:一种机械研磨式抛光设备,包括装置主体、上下间距调节机构以及水平抛光移动机构,所述装置主体包括上顶板、抛光底板、法兰盘、限位筒以及立柱,所述法兰盘安装在抛光底板上端面左侧,所述立柱下端固定在法兰盘上端面,所述立柱上端安装在上顶板下端面左侧,所述限位筒装配在立柱环形侧面下侧,所述上下间距调节机构包括电动液压杆一、水平板、限位条以及套筒,所述电动液压杆一上端固定在上顶板下端面右侧,所述电动液压杆一下端固定在水平板上端面,所述水平板左端安装在套筒环形侧面上,所述套筒包裹在立柱环形侧面上,所述限位条安装在水平板前端面中间位置,所述水平抛光移动机构包括固定块、电动液压杆二、抛光盘、电机以及卡块,所述固定块焊接在套筒环形侧面上,所述卡块装配在限位条上,所述电机安装在卡块下端面,所述抛光盘装配在电机上,所述电动液压杆二左端安装在固定块右端面中间位置,所述电动液压杆二右端安装在卡块左端面。
进一步地,所述法兰盘通过螺栓安装在抛光底板上端面。
进一步地,所述电动液压杆一和电动液压杆二规格相同。
进一步地,所述抛光底板内装配有配重块。
进一步地,所述抛光盘上包裹有羊毛套。
进一步地,所述水平板上安装有照明灯。
本实用新型的有益效果:本实用新型的一种机械研磨式抛光设备,因本实用新型添加了电动液压杆一、水平板、限位条以及套筒,该设计解决了原有抛光设备一般都是固定式,无法调节间距,造成适用范围内小的问题,实现本实用新型可根据不同尺寸来调节间距,增加了本实用新型的适用范围,解决了原有抛光设备粉尘大,作业环境恶劣,打磨效率低的问题。
因本实用新型添加了固定块、电动液压杆二、抛光盘、电机以及卡块,该设计解决了原有抛光设备结构简单,维修率高,抛光效果差的问题,优化了本实用新型抛光工艺,降低了本实用新型的损坏率,提高了本实用新型的使用效果。
因本实用新型添加了螺栓,该设计提高了本实用新型的可靠性,另添加了配重块,该设计增强了本实用新型的稳定性,另添加了羊毛套,该设计提升了本实用新型的抛光效果,另添加了照明灯,该设计便于观察抛光的效果,本实用新型使用方便,抛光效果佳,稳定性好,可靠性高。
附图说明
通过阅读参照以下附图对非限制性实施例所作的详细描述,本实用新型的其它特征、目的和优点将会变得更明显:
图1为本实用新型一种机械研磨式抛光设备的结构示意图;
图2为本实用新型一种机械研磨式抛光设备中上下间距调节机构的结构示意图;
图3为本实用新型一种机械研磨式抛光设备中水平抛光移动机构的结构示意图;
图中:1-上顶板、2-上下间距调节机构、3-水平抛光移动机构、4-抛光底板、5-法兰盘、6-限位筒、7-立柱、21-电动液压杆一、22-水平板、23-限位条、24-套筒、31-固定块、32-电动液压杆二、33-抛光盘、34-电机、35-卡块。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山市森美模型科技有限公司,未经中山市森美模型科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720093765.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。