[实用新型]一种内部环境可调控的展柜有效
申请号: | 201720078968.5 | 申请日: | 2017-01-22 |
公开(公告)号: | CN207023824U | 公开(公告)日: | 2018-02-23 |
发明(设计)人: | 柏培静 | 申请(专利权)人: | 广东金石卖场建设有限公司 |
主分类号: | A47F3/00 | 分类号: | A47F3/00;F24F5/00;F24F13/28 |
代理公司: | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙)11350 | 代理人: | 汤东凤 |
地址: | 528400 广东省中山市港口*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 内部 环境 调控 展柜 | ||
技术领域
本实用新型涉及展柜技术领域,尤其涉及一种内部环境可调控的展柜。
背景技术
目前用于展示文物的展柜中少数已经具备自动调控功能,但其自动调控功能多只能进行温度与湿度的调控,而对展柜内部的氛围无法进行控制。但在一些特殊的领域,如文物展示,易氧化物质的展示等领域,被展示物对存放环境的氛围要求较高,展柜内不适宜的气氛环境会对这些被展示物造成严重的损害,大部分的展柜内的气体不能被及时换气,从而导致展柜的物品受到部分气体的影响,使得展示物品被损坏。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种内部环境可调控的展柜。
为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:
一种内部环境可调控的展柜,包括底板,所述底板的一侧设有第一连接柱,所述第一连接柱远离底板的一端连接有转动环,所述转动环的下端连接有第二连接柱,所述第二连接柱远离转动环的一端连接有底座,所述底板的另一侧垂直设置有气体处理体,所述气体处理体的一侧设有安装槽,所述气体处理体内设有气体处理腔,所述安装槽的底部设有与气体处理腔连通的通气口,所述安装槽内设有透气板, 所述气体处理体的另一侧设有与气体处理腔连通的插槽,所述插槽插设有过滤板,所述气体处理体的上方设有顶板,所述顶板上设有与气体处理腔连通的吸气口,所述吸气口内安装有吸风机,所述吸风口上铺设有防尘网,所述顶板和底板之间连接有透视镜。
优选地,所述第一连接柱的一端与转动环之间为螺纹连接,所述转动环的一侧设有转动槽,所述第二连接柱的一端设有与转动槽对应的环形块。
优选地,所述底座的底面设有放置槽,所述放置槽内设有防滑垫。
优选地,所述透气板上设有多个排气孔,所述排气孔内设有过滤网。
本实用新型中,操作方便,结构简单,通过气体处理体将展柜内的空气进行不断的调节,进而保持展柜内的气体处于持续性切换状态,进而可以保证了展柜内的气体可调控效果。
附图说明
图1为本实用新型提出的一种内部环境可调控的展柜的结构示意图;
图2为本实用新型提出的一种内部环境可调控的展柜的侧面结构示意图。
图中:1顶板、2气体处理体、3底板、4第一连接柱、5转动环、6第二连接柱、7底座、8透气板、9吸风机、10防尘网、11过滤板。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中 的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。
参照图1-2,一种内部环境可调控的展柜,包括底板3,底板3的一侧设有第一连接柱4,第一连接柱4远离底板3的一端连接有转动环5,转动环5的下端连接有第二连接柱6,第一连接柱4的一端与转动环5之间为螺纹连接,转动环5的一侧设有转动槽,第二连接柱6的一端设有与转动槽对应的环形块,使得整个展柜可以被调节高度,以满足使用者的需求,第二连接柱6远离转动环5的一端连接有底座7,底座7的底面设有放置槽,放置槽内设有防滑垫,使得整个装置的底部与底面的接触摩擦力增大,底板3的另一侧垂直设置有气体处理体2,气体处理体2的一侧设有安装槽,气体处理体2内设有气体处理腔,安装槽的底部设有与气体处理腔连通的通气口,安装槽内设有透气板8,气体处理体2的另一侧设有与气体处理腔连通的插槽,插槽插设有过滤板11,气体处理体2的上方设有顶板1,顶板1上设有与气体处理腔连通的吸气口,吸气口内安装有吸风机9,吸风口上铺设有防尘网10,顶板1和底板3之间连接有透视镜,透气板8上设有多个排气孔,排气孔内设有过滤网,可以将展柜内的空气经过过滤网之后可以被快速过滤,从而达到过滤展柜内的环境的效果。
本实用新型中,使用者使用该装置时,可以将物品放置于展柜内,进而将吸风机9打开,此时吸风机将展柜内的气体可以不断地进行切换,通过透气板8展柜内的气体不断经过过滤板11,进而使得气体可以被过滤,将展柜内的气体进行清理,保持展柜内的气体内被快速 调控,进而保证了展柜内环境的可调控的效果。
以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
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