[实用新型]一种溶铜罐

说明书

技术领域

本实用新型涉及反应罐领域，特别涉及一种溶铜罐。

背景技术

在对一些物体镀铜时，需要在电解槽内加入硫酸铜溶液，在镀铜过程中，硫酸铜溶液会逐渐变稀释，而溶铜罐就是用来增加硫酸铜浓度的反应罐，罐体会连通电解槽，电解槽内浓度较稀的硫酸铜溶液被抽入到罐体内，然后向罐体内加入氧化铜粉末，使氧化铜粉末与被稀释的硫酸铜溶液反应生成较浓的硫酸铜，再经过回流泵把较浓的硫酸铜溶液抽入电解槽内，以使电解槽能够较效率的对物件进行镀铜，而氧化铜粉末中可能会存在颗粒杂质，如果直接将溶铜罐内反应后的溶液抽入到电解槽内，则杂质颗粒会随着溶液进入到电解槽内，从而影响电解槽的镀铜效果。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种溶铜罐，其能够滤除硫酸铜液中的杂质。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：一种溶铜罐，包括罐体、进口和出口，所述罐体一端与电解槽连通，另一端在出口处设有回流泵并通过回流泵连通至电解槽，所述罐体内设有若干与罐底连接的第一挡板,以及若干与罐顶连接的第二挡板,所述第二挡板位于相邻的第二挡板之间, 所述第二挡板靠近出口设置，且所述第一挡板、第二挡板与罐体之间均留有间隙，靠近所述出口的第一挡板和第二挡板之间设有过滤板，所述罐体位于过滤板正上方的位置开设有通孔，所述通孔上较接有盖板。

通过上述方案，电解槽内的硫酸铜溶液被抽入到罐体内，然后在出口处设有回流泵，把电解槽内反应后的溶液再次抽入到电解槽内，进口用于向罐体内加入氧化铜，当把氧化铜由进口加入到罐体内时，氧化铜会被第一挡板阻挡，使氧化铜和硫酸铜充分反应，分流槽用于使罐体内的溶液较均匀的通过间隙，从而使氧化铜和硫酸铜较均匀的反应，然后反应后的氧化铜经过第一挡板与罐体之间的间隙流入到第一挡板与第二挡板之间，再次通过第二挡板与罐体之间的间隙，依次循环而从罐体的一端流向出口处，如此在罐体内形成了折流，一方面可以增大氧化铜和硫酸铜在罐体内的反应时间，另一方面可以使氧化铜和硫酸铜更加均匀的混合，从而使氧化铜和硫酸铜较充分的反应，过滤板位于靠近出口的第一挡板和第二挡板之间，且第二挡板靠近出口设置，则第二挡板可以阻挡溶液直接从罐体中进入，而是先通过第一挡板与罐体的间隙，然后由于第二挡板的阻挡，硫酸铜溶液和氧化铜粉末不会直接到达处口处，而是会经过第一挡板和第二挡板之间的过滤板，在这个过程中，硫酸铜溶液中的一些杂质颗粒会被过滤板滤除，之后再经过第二挡板与罐体之间的间隙到达出口，则经过出口的硫酸铜溶液纯度会较高，进而使电解槽内的硫酸铜溶液比较纯净。

进一步的，与所述过滤板相邻且位于过滤板远离出口的一侧的第二挡板靠近间隙的一端设有缓冲板，所述缓冲板向靠近出口的第一挡板延伸并倾斜向下设置，所述缓冲板与第一挡板之间留有空隙。

通过上述方案，溶液从第一挡板的间隙处落下时，会与罐体罐底的溶液发生强烈的撞击，从而产生较多的泡沫，经过长期的积累，泡沫会进入到过滤板内，从而影响过滤板的过滤效果，设有缓冲板用于减缓硫酸铜溶液与罐体内的溶液撞击，硫酸铜溶液会顺着缓冲板而运动至第一挡板上，然后通过空隙沿着第一挡板落入到罐体内，减缓了硫酸铜溶液与罐体内的溶液的撞击，从而减缓了泡沫的产生。

进一步的，靠近所述缓冲板的第一挡板向缓冲板方向倾斜设置。

通过上述方案，这样设置便于第一挡板接收缓冲板上留下的溶液，增大了溶液沿着第一挡板落入罐体的量，从而更大程度的减缓了泡沫的产生。

进一步的，所述缓冲板靠近罐顶的一侧均布有若干分流条。

通过上述方案，分流条可以使经过缓冲板的溶液较均匀的运动至第一挡板上，从而使从第一挡板上落下的溶液流速比较均匀，减缓了溶液从第一挡板上落下时对罐体内溶液的搅动。

进一步的，所述第一挡板靠近过滤板的一端设有用于填充第一挡板和过滤板之间间隔的填充块。

通过上述方案，由于第一挡板倾斜设置，则第一挡板与填充块之间会有间隔，而溶液会从间隔处进入到过滤板内，从而使溶液无法完全通过过滤板，影响了溶液的过滤效果，设有填充块填充间隔，使溶液无法从间隔内进入到过滤板，增大了溶液经过过滤板的行程，从而增加了过滤板的过滤效果。

进一步的，所述罐体位于过滤板底端的两侧设有支撑块，所述支撑块使过滤板的底端与靠近出口的第一挡板平齐。

通过上述方案，设有支撑块支撑过滤板的底端，使过滤板的底端与第一挡板平齐，则溶液只能够通过过滤板的下方进入过滤板，增大了溶液通过过滤板的行程，从而提高了顾虑效果。

进一步的，所述过滤板的上端与第二挡板等高。