[实用新型]一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃有效
| 申请号： | 201720066963.0 | 申请日： | 2017-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN206408119U | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 宋保柱;王栋权 | 申请（专利权）人： | 吴江南玻华东工程玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司32103 | 代理人： | 孙仿卫,陈婷婷 |
| 地址： | 215222 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 透过 反射率 双银低 辐射 玻璃 | ||
1.一种低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，包括玻璃基体（100）和镀设在所述玻璃基体（100）上的复合膜层（200），其特征在于：所述复合膜层（200）由第一介质层（1）、第一吸收阻挡层（2）、第二介质层（3）、第一功能层（4）、第二功能层（5）、第二吸收阻挡层（6）、第三介质层（7）、第三功能层（8）、第三吸收阻挡层（9）、第四介质层（10）自所述玻璃基体（100）的表面向外依次层叠而成，
其中，所述的第一功能层（4）、第三功能层（8）分别为Ag层，所述第二功能层（5）为Cu层，所述第一介质层（1）的厚度为0～30nm；第一吸收阻挡层（2）的厚度为1～5nm；第二介质层（3）的厚度为10～50nm；第一功能层（4）的厚度为1～10nm；第二功能层（5）的厚度为1～10nm；第二吸收阻挡层（6）的厚度为1～10nm；第三介质层（7）的厚度为40～100nm；第三功能层（8）的厚度为5～15nm；第三吸收阻挡层（9）的厚度为1～10nm；第四介质层（10）的厚度为20～100nm。
2.根据权利要求1所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第二功能层（5）的厚度为5～8nm。
3.根据权利要求2所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一功能层（4）的厚度为3～6nm，第三功能层（8）的厚度为11～13nm。
4.根据权利要求1所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一介质层（1）、第二介质层（3）、第三介质层（7）、第四介质层（10）为氧化锌层或氮化硅层。
5.根据权利要求4所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一介质层（1）、第二介质层（3）、第三介质层（7）均为氧化锌层，所述第四介质层（10）为氮化硅层。
6.根据权利要求4所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第四介质层（10）为氮化硅层，且其厚度为35～45nm。
7.根据权利要求1所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第一吸收阻挡层（2）、第二吸收阻挡层（6）及第三吸收阻挡层（9）均为镍铬层。
8.根据权利要求7所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述第二吸收阻挡层（6）与第三吸收阻挡层（9）均为1～2nm。
9.根据权利要求1至8任一所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述复合膜层（200）由自所述玻璃基体（100）的表面向外依次层叠的氧化锌层/镍铬层/氧化锌层/银层/铜层/镍铬层/氧化锌层/银层/镍铬层/氮化硅层组成，该复合膜层（200）中各膜层的厚度分别为15.5 nm /3.3 nm /38.5 nm /3.1 nm /5.1 nm /1.8 nm /78.9 nm /11.2 nm /1.2 nm /42.2nm。
10.根据权利要求1至8任一所述的低透过率低反射率的双银低辐射玻璃，其特征在于：所述复合膜层（200）由自所述玻璃基体（100）的表面向外依次层叠的镍铬层/氧化锌层/银层/铜层/镍铬层/氧化锌层/银层/镍铬层/氮化硅层组成，该复合膜层（200）中各膜层的厚度分别为2.6 nm /41.7 nm /5.1 nm /7.1 nm /1.0 nm /80.6 nm /12.2 nm /1.8 nm /39.2nm。
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