[实用新型]一种曝光机

说明书

技术领域

本实用新型涉及曝光机技术领域，更具体地说，涉及一种曝光机。

背景技术

曝光机是集电子光学、电气、机械、真空、计算机技术等于一体的复杂的半导体加工设备，70年代以后广泛应用于半导体集成电路制造业，是在计算机的控制下，利用聚焦电子束对有机聚合物(通常称为电子抗蚀剂或光刻胶) 进行曝光，它常用于半导体制造，光电电子，平板，射频微波，衍射光学，微机电系统，凹凸或覆晶设备、电路板和其他要求精细印制领域。

传统手动曝光机一般需要一名曝光手和三名对位手作业，即需要一个曝光工位和三个对位工位，由对位手将材料对位后再给曝光手进行曝光，如此大大增加了人力成本，且在遇在柔性电路板(柔性电路板)有涨缩的异常情况时，经常会出现对位时间增加和生产制品的返工，如此极大增加了生产成本，降低了生产效率。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种能降低生产成本、提高生产效率的曝光机。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：构造一种曝光机，包括曝光机箱以及设置在所述曝光机箱上的可相互贴合的上台面和下台面，所述下台面为透光台面，所述下台面上设置有至少一个用于将待曝光材料进行定位的定位件。

优选地，所述定位件为定位针。

优选地，所述定位件为可伸缩的伸缩定位件。

优选地，所述定位件为非伸缩定位件，所述上台面对应所述定位件开设有避让孔。

优选地，所述下台面设置在所述曝光机箱顶部，所述曝光机箱内设有可发光且发出的光朝向所述下台面的曝光灯。

优选地，在所述曝光机箱内设有抽真空装置，所述下台面设有用于抽真空的第一沟槽，所述第一沟槽内设置有第一槽孔，所述第一槽孔与所述抽真空装置连通。

优选地，所述第一沟槽将所述下台面分为多个区域，每个所述区域内均设置有所述定位件。

优选地，所述上台面设有用于抽真空的第二沟槽，所述第二沟槽内设置有第二槽孔。

优选地，所述上台面也设置有所述定位件。

优选地，所述上台面和下台面为柔性且透光的亚克力板。

实施本实用新型的曝光机，具有以下有益效果：本实用新型曝光机包括曝光机箱以及设置在所述曝光机箱上的可相互贴合的上台面和下台面，所述下台面为透光台面，所述下台面上设置有至少一个用于定位的定位件，该定位件将待曝光材料固定住从而不会出现位移而造成曝光偏位的异常，保证对位的精确度，提高生产效率；同时该曝光机实现由单人即可完成对位、曝光的工序，减少了人力成本。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明，附图中：

图1是使用本实用新型曝光机进行曝光的示意图；

图2是本实用新型曝光机的下台面的结构示意图；

图3是本实用新型曝光机的上台面的结构示意图；

图4是本实用新型曝光机的工位示意图；

图5是本实用新型曝光机的对位方式示意图；

图6是本实用新型曝光机的上台面和下台面组合的示意图；

图7是传统曝光机的工位示意图；

图8是传统型曝光机的对位方式示意图；

图9是传统曝光机的上台面和下台面组合的示意图。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解，现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。

本实用新型公开了一种曝光机，可用于柔性电路板(FPC)4、触摸屏ITO 层等的曝光工序。如图1所示，该曝光机包括曝光机箱(图未示出)以及设置在曝光机箱上的可相互贴合的上台面1和下台面2，下台面2为透光台面，下台面2上设置有至少一个用于将待曝光材料进行定位的定位件3。本实用新型通过定位件3将待曝光材料固定住从而不会出现位移而造成曝光偏位的异常，保证对位的精确度，提高生产效率；同时该曝光机实现由单人即可完成对位、曝光的工序，减少了人力成本。

曝光机的上台面1和下台面2设置在曝光机箱上，下台面2优选地设置在曝光机箱顶部，曝光机箱内设有可发光且发出的光朝向下台面2的曝光灯6。由于曝光灯6设置在曝光机箱内，且位于下台面2的下方，因此下台面2宜采用可透光的材料制成；当采用双面曝光时，上台面1和下台面2均需要采用可透光的材料，以使曝光灯6发出的光能够穿过上台面1和下台面2。本实用新型优选使用具有柔性(挠性)且透光的亚克力板作为上台面和下台面，从而能有利于在下台面2上设置定位件3并同时使曝光灯6发出的光能够穿透过下台面2。