[实用新型]一种曝光光源

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学技术领域，更具体地说，特别涉及一种曝光光源。

背景技术

曝光显影包括曝光与显影两个工序，曝光的物理含意是指光线使感光层面(涂了感光化学物)产生潜影。显影为曝光后的工序，显影为使潜影显现并固化。工业上很多设备都应用了曝光的原理，用以将图文信号转移到需要的材料上，而显影则是常用于印刷、影印、复印、晒图等行业中，让影像显现的一个过程。显影包括正显影和反转显影，正显影时，显影色粉所带电荷的极性，与感光鼓表面静电潜像的电荷极性相反。显影时，在感光鼓表面静电潜像是场力的作用下，色粉被吸附在感光鼓上。静电潜像电位越高的部分，吸附色粉的能力越强；静电潜像电位越低的部分，吸附色粉的能力越弱。对应静电潜像电位(电荷的多少)的不同，其吸附色粉量也就不同。多用在模拟复印机中。反转显影中，感光鼓与色粉电荷极性相同，显影时，通过感光鼓和显影辊之间的电场作用，碳粉被吸到感光鼓曝光区域，其中曝光部位电位低于显影辊表面电位低于感光鼓未曝光部位电位，多用在数码复合机与激光打印机中。

曝光显影工艺是3D镜片产品装饰中常选用的一种后制程装饰方案。在玻璃、有机玻璃、蓝宝石、注塑件等3D产品(如前盖、嵌件、装饰件等)德加工过程中，一般都会涉及到曝光显影工艺，且该工艺可适用于多种高厚度多曲面要求的3D产品的装饰。目前而言，常用的曝光光源一般为汞灯光源或LED曝光光源，但是汞灯光源能量低、能耗高，效率低下，而LED曝光光源能量高，效率高，因此，大部分产品一般都使用LED曝光光源。实际操作中，由于不同的波长一般与不同的感光材料相对应，而LED曝光光源只能提供单一波长，如此，产品一旦更换感光材料则会造成先前LED曝光光源无法适应，导致生产通用匹配性不足，严重影响了生产作用过程的顺利进行。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题为提供一种曝光光源，该曝光光源通过其结构设计，可有效解决因更换感光材料导致光源匹配性不足的问题，确保正常的生产作业。

一种曝光光源，包括灯箱体，所述灯箱体的侧壁上设置有第一光源体与第二光源体，所述第一光源体与所述第二光源体用于光束的发射，所述灯箱体的侧壁上设置有光阑，所述第一光源体及所述第二光源体与所述光阑位于所述灯箱体的不同侧壁，所述光阑用于光束发射方向与形状的限制，所述灯箱体的内腔设置有合束镜，所述合束镜用于将所述第一光源体与所述第二光源体发射的光束合并射向所述光阑，所述光阑下方的光束发射方向上设置有扩束镜，所述扩束镜用于光束发射面积的扩大。

优选地，所述第一光源体与所述第二光源体发射的光束波长不同。

优选地，所述第一光源体与所述第二光源体均由至少两个LED灯珠组合而成，所述LED灯珠呈圆形排布或矩阵排布。

优选地，所述第一光源体发射的光束波长范围为280nm～450nm。

优选地，所述第二光源体发射的光束波长范围为280nm～450nm。

优选地，所述灯箱体为方形箱体，所述光阑设置在所述方形箱体的底端侧壁上，所述第一光源体设置在所述方形箱体的顶端侧壁上，所述第二光源体设置在所述方形箱体的边端侧壁上。

优选地，所述合束镜设置在由所述灯箱体内两平行对角线构成的平面上。

优选地，所述灯箱体下方设置有支撑架，所述扩束镜安装在所述支撑架上。

本实用新型的有益效果是：本实用新型提供的该曝光光源通过其结构设计，在灯箱体内设置第一光源体与第二光源体两个光束发射机构，根据欲曝光工件的需要，选用不同波长的第一光源体与第二光源体进行组合，再利用合束镜将光束集中导向光阑，最后通过扩束镜将光束覆盖欲曝光工件进行曝光，可有效解决因更换感光材料导致光源匹配性不足的问题，确保正常的生产作业。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例一种曝光光源的整体结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。

基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。