[实用新型]激光镭射膜电晕处理装置有效
| 申请号： | 201720019697.6 | 申请日： | 2017-01-09 |
| 公开（公告）号： | CN206406473U | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 刘明辉 | 申请（专利权）人： | 无锡光群雷射科技有限公司 |
| 主分类号： | B29C71/04 | 分类号： | B29C71/04;B29L7/00 |
| 代理公司： | 江阴市同盛专利事务所(普通合伙)32210 | 代理人： | 唐纫兰,沈国安 |
| 地址： | 214000 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 镭射 电晕 处理 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种激光镭射膜电晕处理装置，其特征在于它包括用于对激光镭射膜进行输送导向的辊轴（1）、用于对激光镭射膜进行电晕处理的电晕发生器（2）和真空保护箱（3），所述真空保护箱（3）位于电晕发生器（2）和后道处理机构之间，所述真空保护箱（3）外接真空泵（4），所述电晕发生器（2）包括底部有缺口的真空辐射管（2.1），在所述真空辐射管（2.1）的中心为设置有底部有开口的电子光学管（2.2），在所述电子光学管（2.2）的中心线上设置有阴极管（2.3），在所述真空辐射管（2.1）的底部缺口两侧安装有阳极板（2.4），所述真空辐射管（2.1）的底部通过密封罩（5）将缺口封住，且在密封罩（5）上开设有电子束孔（5.1）。
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