[实用新型]一种微焦点X射线管有效
申请号: | 201720012513.3 | 申请日: | 2017-01-05 |
公开(公告)号: | CN206370400U | 公开(公告)日: | 2017-08-01 |
发明(设计)人: | 李舒;李智文 | 申请(专利权)人: | 上海科颐维电子科技有限公司 |
主分类号: | H01J35/18 | 分类号: | H01J35/18;H01J35/08;H01J35/16 |
代理公司: | 上海领洋专利代理事务所(普通合伙)31292 | 代理人: | 罗晓鹏 |
地址: | 201802 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 焦点 射线 | ||
技术领域
本实用新型涉及光学领域,具体涉及一种微焦点X射线管。
背景技术
目前公知的x射线管焦点比较大,在X射线成像领域的的使用分辨率较低,不能满足在某些领域(如精密的线路板,集成电路,科学研究)的使用。开发微焦点x射线管势在必行。随着我国的现代化建设和科学研究的深入发展,对于具有高分辨率的X射线成像设备需要量越来越多。现有的技术无法实现X射线管无法满足较高精细分辨率的问题。因此,需对现有技术加以改进。
实用新型内容
本实用新型提供了一种微焦点X射线管,用以解决现有技术中无法实现较高精细分辨率的问题。
为实现上述目的,本实用新型采用的技术方案是:
一种微焦点X射线管,所述射线管包括外壳、阴极发射极、阳极、透射窗,所述阴极发射极和所述阳极设置在所述外壳内,所述透射窗设置在所述外壳表面,所述阴极发射极包括发射端、加速极、聚焦极;所述发射端发射出电子经过所述聚焦极和所述加速极送至所述阳极,经过阳极发送到所述透射窗发送至外界。
进一步的改进在于,所述聚焦极包括一级聚焦极和二级聚焦极,所述二级聚焦极设置在所述一级聚焦极远离所述发射端的一侧,所述发射端、所述一级聚焦极、所述二级聚焦极的中心线在同一条直线上,所述加速极设置在所述一级聚焦极和所述二级聚焦极之间。
进一步的改进在于,所述一级聚焦极和所述二级聚焦极外接有聚焦电压控制器。
进一步的改进在于,所述阳极包括一反射面、进入口、外出口,所述反射面位于所述进入口和所述外出口之间。
进一步的改进在于,所述透射窗相对于所述反射面和所述发射端呈直角角度设置。
进一步的改进在于,所述反射面接有散热单元。
进一步的改进在于,所述透射窗为铍窗口,所述外壳为金属和陶瓷相互衔接的外壳。
进一步的改进在于,所述发射端包括一发射头、N根电极线、灯丝,(N>1);所述电极线穿过所述发射头侧面,所述灯丝安装在所述电极线内侧的端点。
进一步的改进在于,所述加速极外接有加速电压控制器。
本实用新型由于使用以上技术方案,使其具有的有益效果是:
本实用新型通过设置聚焦极,让射线在射线管内直接聚焦之后再穿射透射窗发射到射线管外,解决现有技术中无法实现较高精细分辨率的问题。通过进一步设计,使将加设加速电压控制器、聚焦电压控制器,实现更好的加速、聚焦控制。通过阳极的窗口进出及反射面进一步筛选电子束,进一步提高了适用性。
附图说明
图1为本实用新型一种微焦点X射线管的示意图。
具体实施方式
为了使实用新型实现的技术手段、创造特征、达成目的和功效易于明白了解,以下结合附图,进一步阐述本实用新型。
本实用新型的一种微焦点X射线管,如图1所示,射线管包括外壳1、阴极发射极、阳极2、透射窗3,阴极发射极和阳极2设置在外壳1内,透射窗3设置在外壳1表面,阴极发射极包括发射端4、外接有加速电压控制器的加速极5、聚焦极。
聚焦极包括外接有聚焦电压控制器的一级聚焦极6和外接有聚焦电压控制器的二级聚焦极7,二级聚焦极7设置在一级聚焦极6远离发射端4的一侧,加速极5设置在一级聚焦极6和二级聚焦极7之间。发射端4、一级聚焦极6、加速极5、二级聚焦极7的中心线在同一条直线上。
阳极2包括一接有金属散热单元的反射面8、进入口9、外出口10。由于金属具有较好的导热性,可以更好的将反射面上的热量传递出去。反射面8位于进入口9和外出口10之间,进入口9和外出口10所在平面呈相互垂直状态,反射面8和进入口9所在平面及外出口10所在平面均呈光线对称反射角度。
另外,透射窗3和发射端4、一级聚焦极6、加速极5、二级聚焦极7的中心线呈垂直设置。
透射窗3为铍窗口,外壳1为金属和陶瓷相互衔接的外壳,其中以便捷而且密封性较好的凹凸槽衔接模式较好。
更要说明的是,发射端4包括一发射头11、两根电极线12、灯丝13。两根电极线12穿过发射头11侧面,灯丝13安装在两根电极线12内侧的端点。
发射端4发射出电子经过一级聚焦极6、加速极5、二级聚焦极7送至阳极2的进入口9,再由反射面8反射至外出口10,发送到透射窗3发送至外界。完成发射端4发射的直径1000微米电子束汇聚成直径5微米的电子束打到靶上,即形成微焦点的目的。由于聚焦电压控制器和加速电压控制器的控制,更好的调节和控制电子束的状况。
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