[发明专利]用于锝-99m的回旋加速器生产的方法、系统和装置

权利要求书

1.由钼-100金属粉末生产锝-99m的方法，其包括：

提供被具有小于10微米粒度的Mo-100粒子涂布的过渡金属靶板，所述Mo-100涂布的过渡金属靶板通过烧结而硬化；

在基本无氧的环境中，在16MeV至30MeV和80μA至300μA下用质子照射硬化的Mo-100涂布的过渡金属靶板30分钟至8小时；

回收照射过的靶板并将所述照射过的靶板输送至锝-99m回收模块；

用H₂O₂溶液从所述照射过的靶板中溶解钼原子和锝离子以形成氧化物溶液；

将所述氧化物溶液的pH提高到13至15以在其中形成K₂[MoO₄]离子和K[TcO₄]离子，或Na₂[MoO₄]离子和Na[TcO₄]离子；

使调节过pH的氧化物溶液流过树脂柱，以使K[TcO₄]离子或者Na[TcO₄]离子固定在其上，并从中洗脱K₂[MoO₄]离子或Na₂[MoO₄]离子；

从所述树脂柱中洗脱结合的K[TcO₄]离子或Na[TcO₄]离子；

使洗脱的K[TcO₄]离子或Na[TcO₄]离子流过氧化铝柱，以使K[TcO₄]离子或Na[TcO₄]离子固定在其上；

用水洗涤固定的K[TcO₄]离子或Na[TcO₄]离子；

用盐水溶液洗脱固定的K[TcO₄]离子或Na[TcO₄]离子；和

回收洗脱的K[TcO₄]离子或Na[TcO₄]离子。

2.权利要求1的方法，其中通过所述将所述氧化物溶液的pH提高产生一种或多种氧化的钼物类，其选自Mo₂(OH)(OOH)、H₂Mo₂O₃(O₂)₄、H₂MoO₂(O₂)及其组合。

3.用于由钼酸盐-100生产锝-99m的系统，其包含：

靶舱装置，用于在其内安放Mo-100涂布的靶板；

靶舱拾取装置，用于接合靶舱装置并将靶舱装置送入靶站装置；

靶站装置，用于接收并在其内安装靶舱装置，所述靶站装置与回旋加速器接合并可与所述回旋加速器通讯以用质子照射Mo-100涂布的靶板；

接收室装置，用于接收并在其内安装照射过的靶舱装置；

将接收室装置和靶站装置互连的传送管；

用于溶解、回收和提纯钼酸根离子和高锝酸根离子的溶解/提纯模块，用于在其内接收质子照射过的Mo-100涂布的靶板；

输送导管基础结构，其将(i)靶舱拾取装置与靶站装置互连，(ii)靶站装置与接收室装置互连；和(iii)接收室装置与溶解/提纯模块互连；和

向靶站装置供应无氧的气氛的装置。

4.权利要求3的系统，其另外包含与所述传送管接合的增压站装置。

5.权利要求3的系统，其中所述Mo-100涂布的靶板包含：

上表面，其上具有接收的钼-100粉末涂层；和

下表面，在其中提供用于使冷却剂流经其中的通道；

所述靶板包含过渡金属。