[发明专利]复合多层石墨薄片结构及制造方法、散热结构与电子装置有效
申请号: | 201711473000.3 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN109996423B | 公开(公告)日: | 2020-12-08 |
发明(设计)人: | 张秀彬;吴丰宇;周曈;张庭玮;詹智杰;王圣皓 | 申请(专利权)人: | 萨摩亚商奈创国际控股有限公司 |
主分类号: | H05K7/20 | 分类号: | H05K7/20;B32B9/00;B32B9/04 |
代理公司: | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人: | 许志勇;王宁 |
地址: | 萨摩亚阿皮亚,萨能儿康沛克*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 复合 多层 石墨 薄片 结构 制造 方法 散热 电子 装置 | ||
1.一种复合多层石墨薄片结构,包括:
石墨材料层,其包括石墨烯材料与石墨微片材料;
陶瓷材料层,设置在该石墨材料层上;以及
辐射散热层,设置在该陶瓷材料层上,其中该辐射散热层的材料包括石墨颗粒,且该陶瓷材料层夹置在该石墨材料层与该辐射散热层之间。
2.如权利要求1所述的复合多层石墨薄片结构,其特征在于,该石墨烯材料的含量为该石墨微片材料的1%至80%之间。
3.如权利要求1所述的复合多层石墨薄片结构,其特征在于,该石墨材料层的厚度介于15微米至100微米之间。
4.如权利要求1所述的复合多层石墨薄片结构,其特征在于,该陶瓷材料层的材质是选自于下列所构成的组:氧化铝、氧化锆、氧化锌、氧化硅、氮化铝、氮化硼、及其组合。
5.如权利要求1所述的复合多层石墨薄片结构,其特征在于,该陶瓷材料层的厚度介于5微米至100微米之间。
6.如权利要求1所述的复合多层石墨薄片结构,其特征在于,该辐射散热层的厚度介于0.1微米至30微米之间。
7.一种复合多层石墨薄片结构的制造方法,包括:
将石墨微片材料与石墨烯材料加入溶剂中并搅拌,以均匀混合形成浆料;
将该浆料涂布在物件上并干燥该浆料,以形成石墨材料层;
将陶瓷材料加入另一溶剂中并搅拌,以均匀混合形成另一浆料;
将该另一浆料涂布在该石墨材料层上并干燥该另一浆料,以形成陶瓷材料层在该石墨材料层上;
形成辐射散热层在该陶瓷材料层上,使该陶瓷材料层夹置在该石墨材料层与该辐射散热层之间,其中该辐射散热层的材料包括石墨颗粒;以及
移除该物件,以得到该复合多层石墨薄片结构。
8.一种散热结构,与热源配合,并包括:
复合多层石墨薄片结构,包括:
石墨材料层,具有相对的第一表面及第二表面,其中该石墨材料层包括石墨烯材料与石墨微片材料;
陶瓷材料层,设置在该石墨材料层的该第一表面上;以及
辐射散热层,设置在该陶瓷材料层上,其中该辐射散热层的材料包括石墨颗粒,且该陶瓷材料层夹置在该石墨材料层与该辐射散热层之间;以及
粘着层,设置在该石墨材料层的该第二表面上;
其特征在于,该散热结构通过该粘着层粘着在该热源上。
9.如权利要求8所述的散热结构,其特征在于,该石墨烯材料的含量为该石墨微片材料的1%至80%之间。
10.如权利要求8所述的散热结构,其特征在于,该石墨材料层的厚度介于15微米至100微米之间。
11.如权利要求8所述的散热结构,其特征在于,该陶瓷材料层的材质是选自于下列所构成的组:氧化铝、氧化锆、氧化锌、氧化硅、氮化铝、氮化硼、及其组合。
12.如权利要求8所述的散热结构,其特征在于,该陶瓷材料层的厚度介于5微米至100微米之间。
13.如权利要求8所述的散热结构,其特征在于,该辐射散热层的厚度介于0.1微米至30微米之间。
14.如权利要求8所述的散热结构,其特征在于,该粘着层的材料是选自于下列所构成的组:压克力胶、环氧胶、热熔胶、双面胶带、及其组合。
15.如权利要求8所述的散热结构,其为可挠性结构。
16.一种电子装置,包括:
热源;以及
散热结构,设置在该热源,该散热结构包括:
复合多层石墨薄片结构,包括:
石墨材料层,具有相对的第一表面及第二表面,其中该石墨材料层包括石墨烯材料与石墨微片材料;
陶瓷材料层,设置在该石墨材料层的该第一表面上;以及
辐射散热层,设置在该陶瓷材料层上,其中该辐射散热层的材料包括石墨颗粒,且该陶瓷材料层夹置在该石墨材料层与该辐射散热层之间;以及
粘着层,设置在该石墨材料层的该第二表面上;
其特征在于,该散热结构通过该粘着层粘着在该热源上。
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