[发明专利]一种SSD关键日志继承的方法有效

专利信息
申请号: 201711463615.8 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108197218B 公开(公告)日: 2021-11-12
发明(设计)人: 刘水涛;王雯;彭鹏;姜黎 申请(专利权)人: 湖南国科微电子股份有限公司
主分类号: G06F16/18 分类号: G06F16/18;G06F16/16;G06F11/34
代理公司: 北京弘权知识产权代理有限公司 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 410100 湖南省长*** 国省代码: 湖南;43
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 ssd 关键 日志 继承 方法
【说明书】:

本申请涉及SSD固态硬盘应用技术领域,具体涉及一种SSD关键日志继承的方法。现有的日志存放方式会导致日志丢失,很多关键的过程信息丢失,导致有的问题分析很困难。本申请提供一种SSD关键日志继承的方法,所述方法包括:将目标日志定义为关键日志,在下刷日志块中标记为关键日志块,所有等级日志块中标记为正常日志块,进行下刷;对关键日志块和正常日志块进行分级,关键日志为高优先级,正常日志为所有优先级;当日志块记录满时,优先回收存放时间最早的所有优先级日志。日志读取会将所有等级日志与关键日志分别读上来,解析时先解析所有等级日志,然后解析关键日志,关键日志按照时间戳位置填补所有等级日志丢失的条目。

技术领域

本申请涉及SSD固态硬盘应用技术领域,具体涉及一种SSD关键日志继承的方法。

背景技术

日志主要是记录SSD系统运行过程中的过程信息,包括正常与异常日志,用于辅助分析SSD功能实现及执行情况,更关键的是帮助问题定位等,通过日志信息快速定位到出现问题的模块及场景,提高版本迭代效率及版本质量;由于SSD容量要求,NAND Flash 只留有一小部分空间来存放日志,这部分区域循环使用,日志从头往后记,记录快满的时候将头部的一部分日志擦除用来存放接下来要下刷的新日志。因为容量及性能要求,日志不可能不停的大量下刷,所以目前的做法是将日志分等级,按照关键程度进行等级划分,SSD可以设置需要存放的日志等级;日志必须要满足一定的条件才能下刷到Flash 中,尽量少打断系统的正常业务,减少性能波动。

目前是将SSD内部分一部分Block,将这部分Block作为整个日志存储池,日志存储池循环利用,所有等级日志依次写入日志存储池,存储池写满后,将存储池中最开始记录的日志Block擦除来记录新日志,以达到循环利用的目的。还有是将整个日志区域分为A、B两个乒乓日志存储池,都用来存放日志,A与B区域都以R-Block(Raid-Block),当A区域写满后就将B区域的数据擦除,将新日志写到B区域,B区域写满后将A区域数据擦除来存放新的日志,不同等级的日志统一下刷。

日志存储池循环利用的时候,会将之前的存放的日志擦除用来存放新的日志,这样就会导致之前的日志丢失;而将整个日志区域分为A、B两个乒乓日志存储池的话,当其中一个区域日志写满后会将另外一个区域的日志擦除用来存放新的日志,这样就会导致其中一个区域的日志全部丢失。日志丢失使得很多关键的过程信息丢失,就会导致有的问题分析很困难。

发明内容

本发明的目的是为了解决日志存储池循环利用的时候,会将之前的存放的日志擦除用来存放新的日志,这样就会导致之前的日志丢失;而将整个日志区域分为A、B两个乒乓日志存储池的话,当其中一个区域日志写满后会将另外一个区域的日志擦除用来存放新的日志,这样就会导致其中一个区域的日志全部丢失,因为很多关键的过程信息丢失,就会导致有的问题分析很困难的问题。

为此,本发明实施例提供了如下技术方案:一种SSD关键日志继承的方法,所述方法包括以下步骤:

步骤1:将目标日志定义为关键日志,并在下刷日志块中标记为关键日志块,所有等级日志块中标记为正常日志块,进行下刷;

步骤2:对关键日志块和正常日志块进行分级,关键日志为高优先级,正常日志为所有优先级;

步骤3:当日志块记录满时,优先回收存放时间最早的所有优先级日志。

可选地,所述步骤1中的所有等级日志包括目标日志和一般日志。

可选地,步骤1中的下刷方式包括同时下刷或者采用不同的下刷条件将日志分别下刷到块中并标记为对应的日志块。

可选地,所述下刷条件包括日志条目数或者日志容量大小。

可选地,步骤1当整个日志区域分为A、B两个存储池时,当区域A日志记满时,将A区域的关键日志继承转存到区域B中,将目标日志标记为关键日志块,系统新产生的日志按照原来的下刷方式继续下刷。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南国科微电子股份有限公司,未经湖南国科微电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711463615.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top