[发明专利]覆膜支架有效

专利信息
申请号: 201711446248.0 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN109966034B 公开(公告)日: 2021-08-17
发明(设计)人: 刘彩萍;肖本好 申请(专利权)人: 先健科技(深圳)有限公司
主分类号: A61F2/91 分类号: A61F2/91;A61M31/00
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 何平
地址: 518000 广东省深圳市南山区*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 支架
【权利要求书】:

1.一种覆膜支架,包括多圈波形环状物,其特征在于,所述覆膜支架沿圆周方向包括A区域,及与所述A区域相连的B区域,所述覆膜支架在所述A区域进行开窗,所述波形环状物包括位于所述A区域的第一波形分段,及位于所述B区域的第二波形分段,所述第一波形分段的波形夹角范围为70°~120°,所述第一波形分段的波高与相邻所述第一波形分段的间距的比值范围为1/4~3;所述第二波形分段的波形夹角为30°~60°,所述第二波形分段的波高与相邻所述第二波形分段的间距的比值为1/4~3/2,所述第一波形分段的波高与所述第二波形分段的波高的比值大于等于1/3,且小于1。

2.根据权利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述A区域包括沿圆周方向分布的大弯侧区和小弯侧区,所述大弯侧区的波形夹角为80°~100°,所述小弯侧区的波形夹角为75°~95°。

3.根据权利要求2所述的覆膜支架,其特征在于,所述第一波形分段在所述大弯侧区的波高与所述第一波形分段在所述小弯侧区的波高的比值为0.7~1。

4.根据权利要求2所述的覆膜支架,其特征在于,相邻所述第一波形分段在所述大弯侧区的波间距与在所述小弯侧区的波间距的比值为0.7~1。

5.根据权利要求2所述的覆膜支架,其特征在于,所述大弯侧区在覆膜支架的外表面上覆盖的面积与所述小弯侧区在所述覆膜支架的外表面上覆盖的面积的比值为0.7~1.3。

6.根据权利要求2所述的覆膜支架,其特征在于,所述大弯侧区与所述小弯侧区沿圆周方向对称设置,所述B区域位于所述大弯侧区与所述小弯侧区之间。

7.根据权利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述B区域沿圆周方向上的夹角为15°~90°。

8.根据权利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,当所述第一波形分段的波峰与相邻的所述第一波形分段上对应的波峰的连线平行于所述覆膜支架的母线时,1/3≤L1/L2≤1,4mm≤L1≤12mm。

9.根据权利要求8所述的覆膜支架,当所述第一波形分段的波峰与相邻的所述第一波形分段上对应的波谷的连线平行于所述覆膜支架的母线时,1/4≤L1/L2≤3/4,4mm≤L1≤14mm。

10.根据权利要求1所述的覆膜支架,其特征在于,所述第一波形分段的波高为3mm~15mm,所述第二波形分段的波高为8mm~18mm。

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