[发明专利]一种陀螺稳定平台的角位移测量方法在审
| 申请号： | 201711445163.0 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108303019A | 公开（公告）日： | 2018-07-20 |
| 发明（设计）人： | 张宇鹏;汪永阳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01B7/30 | 分类号： | G01B7/30 |
| 代理公司： | 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 | 代理人： | 赵勍毅 |
| 地址： | 130033 吉林省长春*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 偏心检测 方位轴 俯仰轴 陀螺稳定平台 电容传感器 弧面 角位移 电容传感器检测 平台框架 偏心距 测量 角位移测量 安装距离 线位移 检测 预设 第一线 | ||
1.一种陀螺稳定平台角位移的测量方法，其特征在于：陀螺稳定平台包括方位轴、俯仰轴、第一电容传感器和第二电容传感器，所述测量方法包括以下步骤：
在方位轴上设置方位轴偏心检测弧面，以及在俯仰轴上设置俯仰轴偏心检测弧面；
根据电容传感器预设的安装距离，将第一电容传感器固定在陀螺稳定平台的平台框架上以检测方位轴偏心检测弧面，并将第二电容传感器固定在陀螺稳定平台的平台框架上以检测俯仰轴偏心检测弧面；
根据方位轴偏心检测弧面的第一偏心距和第一电容传感器检测到第一线位移得到方位轴的角位移，并根据俯仰轴偏心检测弧面的第二偏心距和第二电容传感器检测到第二线位移得到俯仰轴的角位移。
2.如权利要求1所述的测量方法，其特征在于：当方位轴偏心检测弧面包括第一方位轴偏心检测弧面和第二方位轴偏心检测弧面，俯仰轴偏心检测弧面包括第一俯仰轴偏心检测弧面和第二俯仰轴偏心检测弧面时，所述根据电容传感器预设的安装距离，将第一电容传感器固定在陀螺稳定平台的平台框架上以检测方位轴偏心检测弧面，并将第二电容传感器固定在陀螺稳定平台的平台框架上以检测俯仰轴偏心检测弧面，具体为：
根据第一电容传感器预设的安装距离，将两个第一电容传感器固定在陀螺稳定平台的平台框架上以检测对应的方位轴偏心检测弧面；
所述根据第二电容传感器预设的安装距离，将两个第二电容传感器固定在陀螺稳定平台的平台框架上以检测对应俯仰轴偏心检测弧面。
3.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：所述根据方位轴偏心检测弧面的第一偏心距和第一电容传感器检测到第一线位移得到方位轴角位移，并根据俯仰轴偏心检测弧面的第二偏心距和第二电容传感器检测到第二线位移得到俯仰轴的角位移，具体为：
根据第一方位轴偏心检测弧面的第一偏心距、第二方位轴偏心检测弧面的第二偏心距、两个第一电容传感器分别检测到第一线位移得到方位轴的角位移；
根据第一俯仰轴偏心检测弧面的第一偏心距、第二方俯仰轴偏心检测弧面的第二偏心距、两个第二电容传感器分别检测到第二线位移得到俯仰轴的角位移。
4.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：第一方位轴偏心检测弧面和第二方位轴偏心检测弧面的几何中心对称分布在所述方位轴的两侧。
5.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：第一俯仰轴偏心检测弧面和第二俯仰轴偏心检测弧面的几何中心对称分布在俯仰轴的两侧。
6.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：第一方位轴偏心检测弧面的偏心距离和第二方位轴偏心检测弧面的偏心距离是相等的。
7.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：第一俯仰轴偏心检测弧面的偏心距离和第二俯仰轴偏心检测弧面的偏心距离是相等的。
8.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：两个第一电容传感器中的第一个设置在第一方位轴偏心检测弧面的几何轴线上，两个第一电容传感器中的第二个设置在第二方位轴偏心检测弧面的几何轴线上。
9.如权利要求2所述的测量方法，其特征在于：两个二电容传感器中的第一个设置在第一俯仰轴偏心检测弧面的几何轴线上，两个第一电容传感器中的第二个设置在第二俯仰轴偏心检测弧面的几何轴线上。
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