[发明专利]紫外光固化胶薄膜

说明书

本发明紫外光固化胶薄膜，包括基层薄膜、形成在所述基层薄膜上的紫外光固化胶以及形成在所述紫外光固化胶上的可去除薄膜，所述紫外光固化胶包括按质量百分百计算的以下组分：环氧树脂A 12‑15％、环氧丙烯酸酯10‑15％、环氧树脂B 21‑35％、稀释剂15‑25％、自由基引发剂3‑8％、阳离子引发剂3‑8％、纳米丁苯橡胶1‑4％、α‑甲基苯乙烯5‑10％、苯酚1‑5％。该紫外光固化胶薄膜具有新型材料及组分，且应用性能和应用指标优异，适于工业推广使用。

技术领域

本发明涉及半导体粘接领域，尤其涉及一种用于半导体粘接的紫外光固化胶薄膜。

背景技术

紫外光固化胶(UV胶)又称无影胶、光敏胶，是一种必须通过紫外线光照射才能固化的一类胶粘剂，它可以作为粘接剂使用，也可作为油漆、涂料、油墨等的胶料使用。UV固化胶有很多优点，比如常温固化速度快、节约能源、使用寿命长、粘接强度高等，可以广泛应用于医疗卫生、航空、电子装配、印刷、光学仪器、包装、国防军工等领域。但需要注意的是，在半导体领域中的UV固化胶是有特殊性能要求的，例如粘接强度、表面电阻、静电电压、固化速度等，例如如果固化速度太快，会对半导体的应力造成影响。如果固化速度慢，又影响了其工序的作业能力。

因此，需提供一种具有优异性能指标的UV固化胶。

发明内容

本发明的目的在于提供一种紫外光固化胶薄膜，其具有新型材料及组分，且应用性能和应用指标优异，适于工业推广使用。

为实现上述目的，本发明的紫外光固化胶薄膜，包括基层薄膜、形成在所述基层薄膜上的紫外光固化胶以及形成在所述紫外光固化胶上的可去除薄膜，所述紫外光固化胶包括按质量百分百计算的以下组分：环氧树脂A 12-15％、环氧丙烯酸酯10-15％、环氧树脂B21-35％、稀释剂15-25％、自由基引发剂3-8％、阳离子引发剂3-8％、纳米丁苯橡胶1-4％、α-甲基苯乙烯5-10％、苯酚1-5％。

与现有技术相比，本发明的紫外光固化胶薄膜粘接强度高、表面电阻适宜、静电电压符合半导体应用标准，而且材料易得制备方便，适于工业推广应用。

较佳地，所述紫外光固化胶包括按质量百分百计算的以下组分：环氧树脂A 15％、环氧丙烯酸酯12％、环氧树脂B 31％、稀释剂20％、自由基引发剂5％、阳离子引发剂5％、纳米丁苯橡胶2％、α-甲基苯乙烯8％、苯酚2％。

较佳地，所述基层薄膜的厚度为160-190μm，所述紫外光固化胶的厚度为2-5μm，所述可去除薄膜的厚度为30-50μm。

较佳地，所述紫外光固化胶薄膜的表面电阻为1.0×10⁵-1.5×10⁵欧姆，所述紫外光固化胶的表面电阻为5.0×10⁵-6.0×10⁵欧姆。

较佳地，所述紫外光固化胶薄膜的静电电压为3V。

较佳地，所述紫外光固化胶薄膜在玻璃表面的粘接强度为1.5-1.6N/25mm，所述紫外光固化胶薄膜在不锈钢表面的粘接强度为1.0-1.5N/25mm。

附图说明

图1为本发明的紫外光固化胶薄膜的截面图。

具体实施方式

下面结合实施例对本发明的紫外光固化胶薄膜作进一步说明，但不因此限制本发明。

如图1所示，本发明的紫外光固化胶薄膜包括基层薄膜101、形成在基层薄膜101上的紫外光固化胶102以及形成在紫外光固化胶102上的可去除薄膜103。具体地，该基层薄膜101的厚度为160-190μm，紫外光固化胶102的厚度为2-5μm，可去除薄膜103的厚度为30-50μm。移除该可去除薄膜103后，通过紫外光照射可将紫外光固化胶102及基层薄膜101固化在半导体上。