[发明专利]一种石墨烯粉体制造设备在审
申请号: | 201711430082.3 | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN107934943A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 陈明军 | 申请(专利权)人: | 深圳市山木新能源科技股份有限公司 |
主分类号: | C01B32/184 | 分类号: | C01B32/184 |
代理公司: | 深圳益诺唯创知识产权代理有限公司44447 | 代理人: | 肖婉萍 |
地址: | 518000 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 石墨 体制 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种石墨烯的制备装置,更具体的说,是涉及一种石墨烯粉体制造设备。
背景技术
石墨烯是2004年英国曼彻斯特大学的安德烈·K·海姆(Andre K.Geim)等发现的一种二维碳原子晶体,为单层或多层的极薄的碳材料。石墨烯由于其独特的结构和光电性质,成为碳材料、纳米技术、凝聚态物理和功能材料等领域的研究热点,吸引了诸多科技工作者。单层石墨烯拥有优良的导电、导热性能和低的热膨胀系数,并且其理论比表面积高达2630m2/g,可用于效应晶体管、电极材料、复合材料、液晶显示材料、传感器等。目前制备石墨烯的方法主要有石墨剥裂法(参考文献:Novoselov K S,Geim A K,et al.Science 2004,306,666)、化学氧化还原法(参考文献:D A Dikin,et al.Nature 2007,448,457;Sasha Stankovich,Dmitriy A Dikin,Richard D Piner,et al.Carbon 2007,45,1558)、超声剥离法(参考文献:Guohua Chen,Wengui Weng,Dajun Wu,et al.Carbon.2004,42,753)等。化学氧化还原法是目前最容易实现产业化的方法,目前主要是水合肼溶液还原,先制备氧化石墨,然后将氧化石墨配成浓度约为1g/L的溶液放到反应斧,还原24小时或更久(见参考文献:Sasha Stankovich,Dmitriy A Dikin,Richard D Piner,et al.Carbon 2007,45,1558),这种水合肼溶液还原法不仅需要使用大型的反应斧,占用空间大,而且反应时间过长,不能连续制备,生产效率低。
发明内容
本发明的目的是针对上述现有技术存在的缺陷,提供一种石墨烯粉体制造设备。
本发明的技术方案是,设计一种石墨烯粉体制造设备,包括具有容纳空间的炉身、具有容纳空间的反应室,所述反应室的侧壁上设置至少一喷嘴环,所述喷嘴环通过进料管与外部连接,所述反应室的上端设置有进气口,所述反应室的下端设置有出料口,所述进气口设置有隔绝阀,所述出料口设置有出料阀。
优选的,所述反应室的中部区域向外突出,两端直径逐渐缩小。有利于原料在所述反应室内的反应时间及空间。
优选的,所述反应室下部为漏斗形。便于收集从所述反应室出来的石墨烯。
优选的,所述炉身为圆筒形。
优选的,所述炉身上还设置有测量装置。方便控制所述反应室内的温度及压力。
优选的,所述测量装置包括温度传感器和压力传感器。所述反应室可按照设定好的温度及压力进行充分的反应,能得到更多的产品。
优选的,所述炉身设置有控制模块,所述控制模块通过所述测量装置发的信号来控制所述隔绝阀。控制所述反应室内的温度及压力,提高了石墨烯的生产效率,降低了成本。
优选的,所述喷嘴环的喷口相对于室壁切向设置,且所述喷口相对于水平面呈斜角设置。增加原料进入所述反应室后有充足的反应时间。
优选的,所述进料管上设置有限流装置。控制原料进入的比例有利于原料能充分反应得到更多的产品。
优选的,所述限流装置包括限流阀、流量显示器和流量传感器。
与现有技术相比,本发明至少具有以下有益效果:其可快速、大量并连续制备石墨烯粉体,且设备小巧,占用空间小,成本低廉,提高了石墨烯的生产效率,降低了生产成本。
附图说明
图1为本发明石墨烯粉体制造设备的主视示意图;
图2为本发明石墨烯粉体制造设备的喷嘴环示意图;
图3为本发明石墨烯粉体制造设备的控制示意图;
其中:1、炉身;2、反应室;3、喷嘴环;4、进料管;5、出料口;6、出料阀;7、控制模块;8、测量装置;9、隔绝阀;10、进气口;11、喷口。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本发明做进一步说明。
如图1至图3所示,本发明提出了一种石墨烯粉体制造设备,包括具有容纳空间的炉身1、具有容纳空间的反应室2,所述反应室2的侧壁上设置至少一喷嘴环3,所述喷嘴环3通过进料管4与外部连接,所述反应室2的上端设置有进气口10,所述反应室2的下端设置有出料口5,所述进气口10设置有隔绝阀9,所述出料口5设置有出料阀6。所述喷嘴环3不限定为一个,也可以为两个或者多个,同样所述进料管4不同图1所示只有两个,所述进料管4可沿着所述喷嘴环3的四周均匀分布设置。
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