[发明专利]经颅直流电刺激装置在审

专利信息
申请号: 201711422042.4 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN108042908A 公开(公告)日: 2018-05-18
发明(设计)人: 高亚翔 申请(专利权)人: 北京飞宇星电子科技有限公司
主分类号: A61N1/20 分类号: A61N1/20;A61H15/02;A61M37/00;A61H39/04
代理公司: 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 代理人: 胡茵梦
地址: 100048 北京市海*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 直流电 刺激 装置
【权利要求书】:

1.经颅直流电刺激装置,其特征在于,包括:

恒定电流发生器;

固定帽,其包括均为类半球体形的底层和外层,所述底层为橡胶软层且设置为与大脑皮层紧贴配合,所述外层为硬质层且与底层之间具有间隔,各处间隔相等以使底层和外层之间形成中空腔体,所述底层和外层的下边缘通过一圈环形的水平底板固定连接,所述底板上相对固定有一对耳套,其为弹性结构;

调节机构,其为一对且包括调节管、调节杆、连接柱和海绵盒,所述调节管一端垂直底层固定于底层上表面,另一端水平朝向其对应一侧耳套并固定于外层下表面,所以调节管中部为弧形,所述调节杆一端无缝穿设于调节管另一端内,另一端水平穿出于外层外,所述连接柱一端无缝穿设于调节管一端内,另一端垂直穿出底层连接海绵盒,所述调节管在调节杆一端与连接柱一端之间填充有干燥的细颗粒填充物,所述海绵盒一侧面具有开口,所述开口恰好容纳电极片自由进出,一对电极片位于一对海绵盒内时,恰好位于国际脑电10~20系统的F3和F4位置,一对电极片通过导线分别连接外部的恒定电流发生器;

脸部按摩机构,其包括面罩、下颚固定套和按摩仪,所述面罩上端可拆卸连接于底板上,下端连接下颚固定套,其为弹性套且套于下颚上将面罩固定,所述面罩内侧位于一对脸部和额头位置均设置有按摩仪,所述按摩仪通过固定于面罩上的正反转电机连接并驱动转动,所以按摩仪为圆盘状,内部由一层耐热隔板分割为两个独立的腔室,靠近面罩的腔室为加热腔,其内设置有加热装置,远离面罩的腔室为储料腔,其内可通过进料口灌装按摩液或按摩油,所述按摩仪远离面罩的侧面为略向外突出的圆弧形,其上远离按摩仪的中心均匀设置一圈孔洞,孔洞贯通储料腔,在各孔洞处设置有呈鱼鳞状分布的挡片,其为朝向人脸中心转动的方向设置。

2.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,还包括:头部按摩机构,其包括固定杆、连接杆和按摩球,所述固定杆垂直位于大脑中部的矢状面上并通过气缸驱动上下伸缩,所述固定杆下端铰接有多根连接杆的一端,多根连接杆呈散射状分布于底层和外层之间的中空腔体中,连接杆的另一端穿过底层并万向连接按摩球,所述按摩球上均匀分布有多个弹性凸点。

3.如权利要求2所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述底层和外层之间的中间腔体内还固定设置有H型的定位架,其中部的水平架上具有竖直的通孔,所述固定杆恰好穿过通孔且与通孔相配合。

4.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述海绵盒紧挨头皮的底面均匀设置有多个海绵块,其为倒圆台形,倒圆台形的倾斜角为45度。

5.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述耳套上具有贯通的耳塞孔。

6.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述干燥的细颗粒填充物为干燥细砂。

7.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述调节杆一端和连接柱一端均固定有橡胶片,所述橡胶片直径略大于调节管直径。

8.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述按摩仪远离面罩的侧面边缘向其中心延伸固定有一圈硅胶环形挡圈,所述孔洞相对应的挡片内侧设置有一个堵孔和沿堵孔周边均匀分布的多个凸点,所述堵孔恰好与孔洞相配合。

9.如权利要求1所述的经颅直流电刺激装置,其特征在于,所述底板上向下延伸设置有相对的一对卡合件,其相对的侧面向内凹陷有凹槽,凹槽的开口面为一对相对的半圆中间连接长方体形状,长方体的宽与半圆的直径相等重合,凹槽远离脸部的半圆侧壁沿半径方向向内设置有多个凹孔,凹槽靠近脸部的半圆侧壁上设置有弹性部件,弹性部件连接有半圆形的活动板,弹性部件处于自由状态时,活动板与凹槽远离脸部的半圆侧壁恰好形成为完整的圆,所述面罩的上端两侧固定有一对配合件,其为圆柱体形,且直径与半圆直径相等,配合件远离脸部的一侧壁设置有与凹孔相配合的凸起。

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