[发明专利]散射光偏转器有效
申请号: | 201711397629.4 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108037564B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 布兰特·埃弗雷特·李特尔 | 申请(专利权)人: | 宁波东立创芯光电科技有限公司 |
主分类号: | G02B6/125 | 分类号: | G02B6/125 |
代理公司: | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人: | 陈广民 |
地址: | 315800 浙江省宁波市北*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 散射 偏转 | ||
1.一种散射光偏转器,其特征在于:包括分布在光学芯片内的反射单元,所述反射单元由高折射率材料和低折射率材料呈周期性结构或准周期性结构交替布置构成;当反射单位为一维变化结构时,其周期变化方向为单一方向,即为沿着光线在波导芯层中的传播方向;当反射单元为二维变化结构时,其沿着光线在波导芯层中的传播方向和垂直于光线在波导芯层中的传播方向分布,可以为折射率交替变化的弧形或者为由圆孔或圆柱构成的二维阵列式网格结构;
所述光学芯片包括自下向上依次设置的基底层、下包层、波导芯层和上包层;所述反射单元设置在上包层、下包层或者波导芯层内,或者所述反射单元设置在上包层、下包层以及波导芯层内任两层或任三层或全部层中。
2.根据权利要求1所述的散射光偏转器,其特征在于:所述反射单元具有固定的折射率变化周期。
3.根据权利要求1所述的散射光偏转器,其特征在于:所述反射单元的折射率变化周期缓慢变化,具有准周期。
4.根据权利要求1所述的散射光偏转器,其特征在于:所述反射单元包括多个具有不同折射率变化周期的反射模块,所述反射模块内部的折射率变化周期是固定的。
5.根据权利要求1-4中任一所述的散射光偏转器,其特征在于:所述反射单元位于输入波导和/或输出波导的周围。
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