[发明专利]一种凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料及其制备方法

权利要求书

1.一种凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，由以下方法制备而成：

1)凹土的化学改性：不断搅拌下，将第一改性剂的醇溶液加入到凹土中，第一改性剂与凹土的质量比为0.01～0.1：1，温度控制在20～100℃，反应0.1～48h，制得经化学改性的凹土；所述第一改性剂为能与凹土表面羟基发生反应的有机物，具体为乙烯基氯硅烷、氨基氯硅烷、乙烯基烷氧基硅烷、氨基烷氧基硅烷、磺酸基烷氧基硅烷、氢基烷氧基硅烷、异氰酸基烷氧基硅烷及其硅氧烷离子型改性剂中的至少一种；

2)无溶剂凹土纳米流体的制备：不断搅拌下，将第二改性剂加入经化学改性的凹土中，第二改性剂与第一改性剂的质量比为0.2～5：1，温度控制在20～100℃，反应0.1～48h，后在40～120℃下烘至恒重，得到无溶剂凹土纳米流体；所述第二改性剂为能与第一改性剂改性后所得凹土发生反应的有机物，具体为含氢基、含磺酸基、含乙烯基、含氨基、含羧基的有机物及其有机盐中的至少一种；

3)凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料的制备：将无溶剂凹土纳米流体、水玻璃、碱、荧光粉、消泡剂、分散剂、流平剂机械混合均匀，制得凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，其中无溶剂凹土纳米流体、水玻璃、碱、荧光粉、消泡剂、分散剂、流平剂的质量比为100：5-50：5-50：0.5-10：0.1-2：0.1-2：0.1-2。

2.权利要求1所述凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，其特征在于，所述碱为氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、硫酸钠、硫酸钾、磷酸钠、磷酸钾、氟化钠、氟化钾、硅酸钠、硅酸钾、铝硅酸钠、铝硅酸钾、硅酸碳酸钠中的至少一种。

3.权利要求1所述凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，其特征在于，所述荧光粉为稀土石榴石、硫代镓酸盐、碱土金属硫化物、硫化锌、硅酸盐、卤硅酸盐、铝酸盐、卤磷酸盐、磷酸盐、硼酸盐、氮氧化物、氮化物、钨酸盐、钼酸盐、硫氧化物、钒酸盐、稀土氧化物中的至少一种。

4.权利要求1所述凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，其特征在于，所述消泡剂为磷酸三丁酯、甲基硅油、乙基硅油、二甲基硅油、亲水性硅油中的至少一种。

5.权利要求1所述凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，其特征在于，所述分散剂为三聚磷酸钠、焦磷酸钠、六偏磷酸钠、羟基纤维素、聚丙烯酸盐中的至少一种。

6.权利要求1所述凹土纳米流体基地质聚合物荧光涂料，其特征在于，所述流平剂为甲基三甲氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、乙基三甲氧基硅烷、乙基三乙氧基硅烷、正丙基三甲氧基硅烷、正丙基三乙氧基硅烷、异丙基三甲氧基硅烷、异丙基三乙氧基硅烷、正丁基三甲氧基硅烷、正丁基三乙氧基硅烷、正己基三甲氧基硅烷、异丁基三甲氧基硅烷、异丁基三乙氧基硅烷、正己基三乙氧基硅烷、正辛基三甲基硅烷、正辛基三乙氧基硅烷、异辛基三甲氧基硅烷、异辛基三乙氧基硅烷、正十二烷基三甲氧基硅烷、正十六烷基三甲氧基硅烷、正十八烷基三甲氧基硅烷、苯基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、乙烯基二甲基乙氧基硅烷、乙烯基三异丙氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、丙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、γ-(甲基丙烯酰氧基)丙基三甲氧基硅烷、γ-缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三甲氧基硅烷、γ-巯丙基三乙氧基硅烷、α-巯甲基三乙氧基硅烷、γ-巯丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-巯丙基甲基二乙氧基硅烷、双-[γ-(三乙氧基硅)丙基]二硫化物、双-[γ-(三乙氧基硅)丙基]四硫化物、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸中的至少一种。