[发明专利]一种喷淋头可旋转的玻璃基板清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉及半导体器件制造领域，尤其涉及一种喷淋头可旋转的玻璃基板清洗装置。

背景技术

玻璃基板作为各类半导体器件工艺中的主要部件，在工艺中通常需要使用清洗机对玻璃基板进行多次清洗。现有技术中，最为常见的清洗装置通常包括在传送机构上方的一个或多个滚刷，以及固定在传送机构上方的多个喷淋装置。滚刷清洗装置工作时，喷淋装置开启喷淋清洗液，由传送机构的传送表面输送待清洗的基板，滚刷旋转，其刷毛接触基板的表面，清洗液直接喷射在基板的表面上，从而滚刷对基板进行滚刷清洗。

现有技术中，在清洗过程中，因为喷淋装置自身喷淋范围有限，导致喷淋液在清洗过程中并不能均匀地喷洒到刷毛上，从而造成刷毛通常是一簇簇的集束状，呈螺旋型带状布设在滚刷上，造成刷毛不能展开对基板进行清洗，进而导致清洗效果不佳。

发明内容

本发明的目的在于提供一种喷淋头可旋转的玻璃基板清洗装置。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种喷淋头可旋转的玻璃基板清洗装置，包括朝向传送机构的传送表面设置的滚刷和喷淋装置，所述喷淋装置位于所述滚刷上方，所述喷淋装置的喷头上设置有喷孔，所述装置还包括：设有滑槽的滑动支持杆，所述喷淋装置还包括与所述喷头连接的电机轴，所述电机轴通过电机来驱动并使得所述喷头在水平面上进行旋转，所述喷淋装置通过所述滑槽滑动连接于所述滑动支持杆上，所述喷头可在所述滑动支持杆的延伸方向上作来回移动。

可选的，所述喷头上设置有单排的多个喷孔，所述喷头设有喷孔的一侧表面呈矩形。

可选的，所述喷头的长度小于所述滚刷的直径。

可选的，所述电机交替地驱动所述喷头在水平面上进行顺时针和逆时针的旋转。

可选的，所述滚刷和所述喷孔之间的距离介于5～15cm。

可选的，所述喷头上设置的多个喷孔的喷射方向各不相同。

与现有技术相比，本发明的优点在于：

由于喷头可以在水平面上进行旋转，可以达到在设置有限喷孔的情况下扩大喷淋的面积，使得清洗液可以均匀喷洒于滚刷上，并且结合喷头在所述滑动支持杆的延伸方向上作来回移动，可以进一步避免刷毛的集束情况，改善对玻璃基板的清洗效果。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本发明具体实施例中一种喷淋头可旋转的玻璃基板清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行详细的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

如图1所示，在一实施例中，一种喷淋头可旋转的玻璃基板清洗装置，包括朝向传送机构6的传送表面设置的滚刷4和喷淋装置2，所述喷淋装置2位于所述滚刷4上方，所述喷淋装置2的喷头22上设置有喷孔23，其中，所述装置还包括：设有滑槽的滑动支持杆1，所述喷淋装置2还包括与所述喷头22连接的电机轴24，所述电机轴24通过电机21来驱动并使得所述喷头22在水平面上进行旋转，所述喷淋装置2通过所述滑槽滑动连接于所述滑动支持杆1上，所述喷头22可在所述滑动支持杆1的延伸方向上作来回移动。

上述滑动支持杆1可以通过支架等方式悬浮固定于喷淋装置2上方。

在清洗过程中，玻璃基板5被放置在传送机构6的表面并进行传送，由于滚刷4是通过一定的固定机构悬浮固定在传送表面上方，并且和传送机构6的表面之间的间隙通常小于玻璃基板的厚度，从而可以实现清洗。该滚刷4可以滚动。

优选地，所述喷头22上设置有单排的多个喷孔23，所述喷头22设有喷孔23的一侧表面呈矩形，这样设计的目的是使得喷孔数量较少，降低制造成本。

优选地，所述喷头22的长度小于所述滚刷4的直径，从而进一步降低制造成本，并且保证了不错的清洗效果。

优选地，所述电机21交替地驱动所述喷头22在水平面上进行顺时针和逆时针的旋转。例如，电机按照“顺时针1圈-逆时针1圈”这样的方式进行交替，可以进一步使得清洗液更加沿着不同的方向甩到刷毛上，从而降低刷毛集束的情况。