[发明专利]一种双喷淋头玻璃基板清洗装置

说明书

本发明公开了一种双喷淋头玻璃基板清洗装置，包括设有滑槽的滑动支持杆(1)、通过所述滑槽滑动连接于所述滑动支持杆(1)上的第一喷淋装置(2a)和第二喷淋装置(2b)以及设置在喷淋装置(2)下方的滚刷(4)，第一喷淋装置(2a)、第二喷淋装置(2b)和滚刷(4)均朝向传送机构(6)的传送表面设置，第一喷淋装置(2a)和第二喷淋装置(2b)均包括喷头(22)、连接在该喷头(22)和所述滑动支持杆之间的连杆21以及所述喷头上设置的多个喷孔(23)，第一喷淋装置(2a)和第二喷淋装置(2b)均可在滑动支持杆(1)的延伸方向上作来回移动，并且第一喷淋装置(2a)或所述第二喷淋装置(2b)的最大移动距离之和小于所述滑动支持杆(1)的长度。

技术领域

本发明涉及半导体器件制造领域，尤其涉及一种双喷淋头玻璃基板清洗装置。

背景技术

玻璃基板作为各类半导体器件工艺中的主要部件，在工艺中通常需要使用清洗机对玻璃基板进行多次清洗。现有技术中，最为常见的清洗装置通常包括在传送机构上方的一个或多个滚刷，以及固定在传送机构上方的多个喷淋装置。滚刷清洗装置工作时，喷淋装置开启喷淋清洗液，由传送机构的传送表面输送待清洗的基板，滚刷旋转，其刷毛接触基板的表面，清洗液直接喷射在基板的表面上，从而滚刷对基板进行滚刷清洗。然而，现有的清洗机的清洗效率和清洗质量都有待提高。

发明内容

本发明的目的在于提供一种双喷淋头玻璃基板清洗装置。

为实现上述目的，本发明提供如下技术方案：

一种双喷淋头玻璃基板清洗装置，该装置包括设有滑槽的滑动支持杆、通过所述滑槽滑动连接于所述滑动支持杆上的第一喷淋装置和第二喷淋装置以及设置在喷淋装置下方的滚刷，所述第一喷淋装置、第二喷淋装置和所述滚刷均朝向传送机构的传送表面设置，所述第一喷淋装置和第二喷淋装置均包括喷头、连接在该喷头和所述滑动支持杆之间的连杆以及所述喷头上设置的多个喷孔，所述第一喷淋装置和第二喷淋装置均可在所述滑动支持杆的延伸方向上作来回移动，并且第一喷淋装置或所述第二喷淋装置的最大移动距离之和小于所述滑动支持杆的长度。

可选的，所述滑动支持杆上设置有一个向下凸起的止挡部，用以对第一喷淋装置或所述第二喷淋装置的移动幅度进行限制。

可选的，所述止挡部位于所述滑动支持杆的中点。

可选的，所述喷头上设置的多个喷孔的喷射方向各不相同。

可选的，所述第一喷淋装置和第二喷淋装置在所述滑动支持杆的延伸方向上移动的方向相反。

可选的，所述止挡部可以缩到所述滑动支持杆内，以取消对移动幅度的限制作用。

与现有技术相比，本发明的优点在于：

由于是双喷淋装置，并且可以都是可移动的，可以保证清洗效果的同时提高清洗效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本发明具体实施例中一种双喷淋头玻璃基板清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行详细的描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。