[发明专利]抗激光损伤自适应防护装置和应用该装置的光学探测系统

权利要求书

1.一种用于光学探测系统的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：该装置包括沿光路方向依次设置的分光光栅、防护单元、合束光栅；所述防护单元包括相变单元和反射单元；所述相变单元在未相变时能够使光线通过，保证探测器正常工作，当入射光功率或相变单元处温度达到设定阈值时，所述相变单元能够发生半导体金属相变，阻止光线通过；所述反射单元用于将入射至该单元上的光反射和/或散射出该装置；所述分光光栅用于将探测器工作波段内的光线投射到所述相变单元上，并将探测器工作波段外的光线投射到所述反射单元上；所述合束光栅用于将从分光光栅出来且通过相变单元的光线合束；所述分光光栅和合束光栅为透射式光栅。

2.根据权利要求1所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：所述防护单元一体设置于一个基体上，所述基体分为相变单元区域和反射单元区域，所述相变单元区域设有相变薄膜形成所述相变单元；所述反射单元区域设有反射薄膜形成所述反射单元；所述基体为光学基片。

3.根据权利要求1所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：所述相变单元与反射单元分体设置，所述相变单元包括第一基体以及第一基体上的相变薄膜，所述第一基体为光学基片；所述反射单元包括用于反射光线并阻止光线透射的第二基体。

4.根据权利要求3所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：所述第二基体表面具有反射薄膜，或者第二基体的表面为抛光面。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：所述反射单元位于相变单元的周围。

6.根据权利要求2、3或4所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：所述相变薄膜呈阵列排布，其阵列图案设计与所述分光光栅的分光设计结构匹配一致。

7.根据权利要求6所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：所述合束光栅由与所述分光光栅相同结构类型的光栅反向180°放置构成，用于与所述分光光栅构成逆光路。

8.根据权利要求7所述的抗激光损伤自适应防护装置，其特征在于：该装置还包括用于安装和固定所述分光光栅、防护单元和合束光栅的结构框架。

9.一种应用如权利要求1-8任一所述的抗激光损伤自适应防护装置的光学探测系统，包括光学镜组和探测器，其特征在于：该防护装置位于探测器前方，用于保护探测器。