[发明专利]一种镀有电气石的眼镜片

权利要求书

1.一种镀有电气石的眼镜片，包括基片，其特征在于：所述基片的内、外两个表面从里到外对称依序设有第一层、第二层、第三层、第四层、第五层、第六层、第七层、第八层、第九层、第十层、第十一层、第十二层和第十三层；所述第一层、第四层和第六层均为五氧化三钛层，所述第二层、第五层和第七层均为二氧化硅层，所述第三层为金属层，所述第八层为ITO层，所述第九层为纳米银层，所述第十层为高硬度层，所述第十一层为氟化物层，所述第十二层为防紫外线层，所述第十三层为电气石层。

2.根据权利要求1所述的一种镀有电气石的眼镜片，其特征在于：所述电气石层的材料为电气石粉，并采用电子枪蒸镀成型，电气石层的厚度为5-10nm。

3.根据权利要求2所述的一种镀有电气石的眼镜片，其特征在于：所述电气石粉由静态负离子数值≥600ions/cm³的电气石原料破碎而成。

4.根据权利要求2所述的一种镀有电气石的眼镜片，其特征在于：所述电气石粉经过环氧基硅烷偶联剂改性处理。

5.根据权利要求1所述的一种镀有电气石的眼镜片，其特征在于：每层五氧化三钛层的厚度均为10-100nm，每层二氧化硅层的厚度均为50-100nm，金属层的厚度为5-20nm，ITO层的厚度为10-100nm，纳米银层的厚度为5-20nm，高硬度层的厚度为10-50nm，氟化物层的厚度为3-10nm，防紫外线层的厚度为3-10nm。

6.根据权利要求1所述的一种镀有电气石的眼镜片，其特征在于：所述纳米银层的材料为银的氧化物，并由电子枪蒸镀成型；所述高硬度层的材料为三氧化二铝、氧化锆、二氧化硅晶体或一氧化硅晶体，并由电子枪蒸镀成型；所述氟化物层的材料为氟化镁，并由电阻蒸镀成型。