[发明专利]一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法在审
申请号: | 201711347319.1 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN107934930A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 孔令涛;张开胜;刘涛;陈希凡 | 申请(专利权)人: | 中霖中科环境科技(安徽)股份有限公司 |
主分类号: | C01B21/064 | 分类号: | C01B21/064;B82Y40/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230000 安徽省合肥市高新区望*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高效 去除 水中 离子 氮化 纳米 低温 合成 方法 | ||
1.一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法,其特征在于:
包括如下步骤:
(1)先将硼酸和尿素按比例混合;
(2)将混合后的一定比例的硼酸和尿素放入马弗炉中高温加热并保温,然后冷却,得到高效吸附去除水中铅离子的氮化硼纳米片。
2.根据权利要求1所述的一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法,其特征在于:硼酸和尿素的摩尔比为1:8~15。
3.根据权利要求1所述的一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法,其特征在于:所述低温为450~550℃,保温时间为2-5h。
4.根据权利要求1所述的一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法,其特征在于:没有保护气氛。
5.根据权利要求1所述的一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法,其特征在于:氮化硼纳米片为六方结构,薄层多孔。
6.根据权利要求1所述的一种高效去除水中铅离子的氮化硼纳米片的低温合成方法,其特征在于:氮化硼纳米片的比表面积为500~800m2/g,平均孔隙为6~15nm,厚度0.7~1.4nm。
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