[发明专利]一种玻璃基板减薄蚀刻液

说明书

本发明提供了一种玻璃基板减薄蚀刻液，该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到：四丁基氟化铵:10‑20％，有机酸:1‑10％，无机酸:1‑10％，金属螯合剂:1‑7％，表面活性剂:1‑5％，聚乙烯醇(PVA):1‑2％，及余量的水。该玻璃基板减薄蚀刻液通过优化配方，由四丁基氟化铵提供F‑，有机酸和无机酸可提供H+，同样达到了蚀刻玻璃的效果，还避免使用氢氟酸。

技术领域

本发明涉及玻璃基板减薄生产技术领域，尤其是涉及一种玻璃基板减薄蚀刻液。

背景技术

平板显示领域中，包括等离子体显示、触摸屏、液晶显示等制备工艺过程中，为了进一步减轻显示器件的重量，生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。玻璃基板减薄的方法通常有两种，一种是物理抛光研磨，另一种是化学蚀刻减薄，其中，化学蚀刻减薄是最为广泛应用的。目前，所使用的减薄蚀刻液基板采用的都是以氢氟酸为主要成分，但氢氟酸的毒性大、易挥发，尤其是在配置时需采用较高的温度和浓度，不仅生产过程中危险性高，而且会对环境造成巨大污染。

发明内容

有鉴于此，本发明旨在提出一种玻璃基板减薄蚀刻液，通过优化配方，由四丁基氟化铵提供F-，有机酸和无机酸可提供H+，同样达到了蚀刻玻璃的效果，还避免使用氢氟酸。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种玻璃基板减薄蚀刻液，该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到：四丁基氟化铵:10-20％，有机酸:1-10％，无机酸:1-10％，金属螯合剂:1-7％，表面活性剂:1-5％，聚乙烯醇(PVA):1-2％，及余量的水。

进一步，该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到：四丁基氟化铵:10-20％，有机酸:5-10％，无机酸:5-10％，金属螯合剂:1-7％，表面活性剂:1-5％，聚乙烯醇(PVA):1-2％，及余量的水。

进一步，所述金属螯合剂为氨基三乙酸(NTA)或乙二胺四乙酸(EDTA)。

进一步，所述有机酸为甲酸、乙酸、草酸、丙酸、乙二酸、丁二酸、水杨酸、山梨酸、柠檬酸、苹果酸、苯甲酸或甲磺酸中的一种或几种的混合物。

进一步，所述无机酸为盐酸、硝酸、硫酸或磷酸中的一种或几种的混合物。

进一步，所述表面活性剂为烷基硫酸钠、阴离子聚丙烯酰胺、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚羧酸钠、脂肪醇硫酸钠中的一种或几种。

进一步，该蚀刻液由包括如下步骤的制备方法制备得到：

(1)将四丁基氟化铵、金属螯合剂加入水中，搅拌使其完全溶解；

(2)将有机酸和无机酸混合后加入步骤(1)得到的水溶液中稀释；

(3)然后将表面活性剂、聚乙烯醇(PVA)加入步骤(2)得到的溶液中，搅拌均匀。

相对于现有技术，本发明所述的玻璃基板减薄蚀刻液具有以下优势：