[发明专利]非均质填充的3D打印方法

权利要求书

1.一种非均质填充的3D打印方法，其特征在于，包括：接收并读取待加工物品的三维模型文件；

根据读取所述三维模型文件得到的三维模型进行分层；

根据所述三维模型高度方向的密度分布特征确定单层切片的高度及层数，根据所述三维模型高度方向的密度分布特征，纵截面是多个具有相同密度特征或不同密度特征的单层切片组合成的集合体，根据所述单层切片的高度、层数及密度分布特征确定路径参数，以得到打印路径；和/或，根据所述三维模型宽度方向的密度分布特征确定密度函数及所述密度函数的参数，所述密度函数包括：常数函数、多项式函数、三角函数、正态分布函数、偏置函数或放射线函数，将所述密度函数的参数代入所述密度函数得到相邻线条的填充参数以得到打印路径；

按照所述打印路径进行3D打印。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于，单层切片的宽度方向的密度函数可以采用一种密度函数或多种密度函数进行组合。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于，当所述密度函数为常数函数时，所述常数函数为一固定数值。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于，当所述密度函数为多项式函数时，所述多项式函为f(x)+arg[1]+|arg[2]+arg[3]∗χ+arg[4]∗χ²+⋯|，其中arg[1]、arg[2]、arg[3]和arg[4]均为输入参数。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,当所述密度函数为三角函数时，所述三角函数为y=arg[1]+|arg[2]∗sin(arg[3]∗χ+arg[4]+arg[5])|，其中arg[1]、arg[2]、arg[3]、arg[4]、arg[5]均为输入参数。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，当所述的密度函数为正态分布函数时，所述的正态分布函数为，其中、均为输入参数。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的密度函数为偏置函数时，所述的偏置函数为f_step(x)，其中step[1]、step[2]、step[3]和step[4]均为输入参数，参数值等于距离外轮廓相对距离，可以依据具体需求，自行设定。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述的密度函数为放射线函数时，所述的放射线函数为f_ray(x)，其中arg[1]、arg[2]、arg[3]和arg[4]均为输入参数，参数值等于相对起始放射线的角度值，取值范围在0-360，可以依据具体需求，自行设定。