[发明专利]基于软光刻的复合微纳结构抑菌薄膜制备系统及制备方法

权利要求书

1.一种基于软光刻的复合微纳结构抑菌薄膜制备系统，包括：计算机、激光光源、激光光束整形器、激光扩束器、光刻图形生成器、光刻投影镜头、样品平台及平台运动控制器；光刻图形通过计算机输入到所述光刻图形生成器中，所述激光光源发出的光束依次通过激光光束整形器和光束扩束器后照射到所述图形生成器表面，所述光束经所述图形生成器反射后经过所述光刻投影镜头将所述光刻图形投影到待加工样品上，在待加工样品上形成具有抑菌作用的周期性表面结构；所述样品台用于放置待加工样品，所述平台运动控制器用于控制所述样品平台的扫描曝光运动。

2.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，还包括光束能量器，所述光束能量器用于调整并控制激光束的能量。

3.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，所述激光光束整形器选自衍射光学元件或空间光调制器。

4.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，所述光刻图形的参数信息可通过改变计算机导入图形生成器中的数字文件信息来改变。

5.根据权利要求3所述的制备系统，其特征在于，所述参数信息包括光刻图形的形状、周期、以及分布。

6.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，所述激光光源选自光纤激光器、半导体激光器或固体激光器的一种。

7.根据权利要求1所述的制备系统，其特征在于，所述光刻图形生成器采用数字微镜阵列器件、空间光调制器或光刻掩模版中的一种。

8.一种基于软光刻的复合微纳结构抑菌薄膜制备方法，其特征在于，包括步骤：

通过计算机将光刻图形导入光刻图形生成器；

激光光源发出光束后依次通过激光光束整形器和光束扩束器后照射到光刻图形生成器的表面后反射经过光刻投影镜头，使得所述光刻图形被投影到样品平台的待加工样品上；

通过平台运动控制器控制样品平台的扫描曝光运动，在待加工样品的表面形成周期性复合微纳锥状结构。

9.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述激光光束整形器选自衍射光学元件或空间光调制器；所述待加工样品为待加工薄膜。

10.根据权利要求8所述的制备方法，其特征在于，所述周期性复合微纳锥状结构是通过软光刻工艺中非充分曝光的方法获得，曝光表面可以是平面或非平面，曝光时间由计算机控制所述激光光源实现。