[发明专利]一种滤光片的选取方法及装置有效

专利信息
申请号: 201711293796.4 申请日: 2017-12-08
公开(公告)号: CN108114913B 公开(公告)日: 2020-04-10
发明(设计)人: 刘淼;姚毅 申请(专利权)人: 凌云光技术集团有限责任公司
主分类号: B07C5/342 分类号: B07C5/342;G01N21/31;G01M11/00
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 100094 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 滤光 选取 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种滤光片的选取方法,其特征在于,所述方法包括:

获取成像芯片的芯片光谱特性曲线;

获取理想光谱特性曲线;

采用归一化算法,计算所述理想光谱特性曲线的归一化光谱特性曲线;

根据所述芯片光谱特性曲线和所述归一化光谱特性曲线,求解滤光片的透过率。

2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取成像芯片的芯片光谱特性曲线之前,所述方法还包括:

获取所述成像芯片的芯片光谱特性图,所述芯片光谱特性图为表征所述芯片光谱特性曲线的图片。

3.如权利要求2所述的方法,其特征在于,所述获取成像芯片的芯片光谱特性曲线,包括:

根据预置选取规则,获取所述芯片光谱特性图的有效点坐标,所述有效点坐标为光谱曲线在所述芯片光谱特性图中的相对位置;

查找所述有效点坐标对应的横坐标值和纵坐标值,所述横坐标值为波长,所述纵坐标值为单位光能量的所述波长的光波照射下所述成像芯片的响应;

根据所述横坐标值和纵坐标值,生成所述芯片光谱特性曲线,所述芯片光谱特性曲线在可见光范围内笼统概括为红光光谱曲线、绿光光谱曲线和蓝光光谱曲线。

4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述采用归一化算法,计算所述理想光谱特性曲线的归一化光谱特性曲线之后,所述方法还包括:

建立关系模型,所述关系模型为所述芯片光谱特性曲线和所述透过率的乘积与所述归一化光谱特性曲线相等。

5.如权利要求4所述的方法,其特征在于,所述根据所述芯片光谱特性曲线和所述归一化光谱特性曲线,求解滤光片的透过率,包括:

根据所述关系模型,计算所述滤光片的透过率。

6.一种滤光片的选取装置,其特征在于,所述装置包括:

获取单元,用于获取成像芯片的芯片光谱特性曲线;

获取单元,还用于获取理想光谱特性曲线;

计算单元,用于采用归一化算法,计算所述理想光谱特性曲线的归一化光谱特性曲线;

求解单元,用于根据所述芯片光谱特性曲线和所述归一化光谱特性曲线,求解滤光片的透过率。

7.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述方法还包括:

所述获取单元,还用于所述获取成像芯片的芯片光谱特性曲线之前,获取所述成像芯片的芯片光谱特性图,所述芯片光谱特性图为表征所述芯片光谱特性曲线的图片。

8.如权利要求7所述的装置,其特征在于,所述获取单元,包括:

获取模块,用于根据预置选取规则,获取所述芯片光谱特性图的有效点坐标,所述有效点坐标为光谱曲线在所述芯片光谱特性图中的相对位置;

查找模块,用于查找所述有效点坐标对应的横坐标值和纵坐标值,所述横坐标值为波长,所述纵坐标值为单位光能量的所述波长的光波照射下所述成像芯片的响应;

生成模块,用于根据所述横坐标值和纵坐标值,生成所述芯片光谱特性曲线,所述芯片光谱特性曲线在可见光范围内笼统概括为红光光谱曲线、绿光光谱曲线和蓝光光谱曲线。

9.如权利要求6所述的装置,其特征在于,所述装置还包括:

建立单元,用于所述采用归一化算法,计算所述理想光谱特性曲线的归一化光谱特性曲线之后,建立关系模型,所述关系模型为所述芯片光谱特性曲线和所述透过率的乘积与所述归一化光谱特性曲线相等。

10.如权利要求9所述的装置,其特征在于,所述求解单元,还用于:

根据所述关系模型,计算所述滤光片的透过率。

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