[发明专利]流体分配装置

权利要求书

1.一种流体分配装置，其特征在于，包括：

本体，具有腔室及阶状构造，所述腔室具有周边端部表面，其中所述阶状构造包括具有第一内侧壁的通道，所述通道围绕所述周边端部表面界定凹陷路径；

膜片，具有圆顶部分、圆顶偏转部分和周边定位边沿，所述周边定位边沿环绕所述圆顶部分，所述圆顶偏转部分位在所述圆顶部分与所述周边定位边沿之间，其中夹置在所述周边定位边沿与所述圆顶偏转部分之间中间内部凹进区的表面界定出密封表面，并且所述密封表面沿着所述周边定位边沿进行密封；以及

盖，附装到所述本体，且所述膜片夹置在所述盖与所述本体之间；

其中所述第一内侧壁接合所述周边定位边沿的周边，以将所述密封表面定位成与所述周边端部表面进行密封接合，从而界定流体贮存器，

所述盖包括定位唇缘，所述定位唇缘接合所述本体的一部分以将所述盖相对于所述本体导引就位。

2.根据权利要求1所述的流体分配装置，其特征在于，所述盖的所述定位唇缘包括牺牲材料，在将所述盖附装到所述本体期间，所述牺牲材料被熔化并接合到所述本体。

3.根据权利要求1或2所述的流体分配装置，其特征在于，所述膜片具有环绕所述圆顶部分的外部周边边沿。

4.根据权利要求3所述的流体分配装置，其特征在于：

所述盖具有凹陷内部顶板、内部定位唇缘及膜片按压表面，

所述凹陷内部顶板界定凹陷区，所述凹陷区容置所述膜片的所述圆顶部分。

5.根据权利要求4所述的流体分配装置，其特征在于，所述内部定位唇缘及所述膜片按压表面中的每一个被定位成横向环绕所述盖的所述凹陷区，且其中所述盖的所述膜片按压表面被定位成接合所述膜片的所述外部周边边沿。

6.根据权利要求3所述的流体分配装置，其特征在于，所述外部周边边沿具有内周边，且所述膜片进一步包括：

盖，具有凹陷区、内部定位唇缘及膜片按压表面，所述凹陷区、所述内部定位唇缘及所述膜片按压表面中的每一个横向环绕所述盖的所述凹陷区，

所述盖的所述内部定位唇缘的尺寸及形状适于在所述内部定位唇缘之上接纳所述膜片的所述外部周边边沿的所述内周边，以将所述膜片的所述外部周边边沿与所述盖的所述膜片按压表面相对地定位。

7.根据权利要求3所述的流体分配装置，其特征在于：

所述盖具有内部定位唇缘、膜片按压表面、外部定位唇缘、及多个膜片定位特征，所述多个膜片定位特征从所述外部定位唇缘向内延伸。

8.根据权利要求1或2所述的流体分配装置，其特征在于，所述本体的所述阶状构造进一步包括具有第二内侧壁的外部边沿，且所述通道具有与所述第一内侧壁横向间隔开的第三内侧壁，所述第三内侧壁通过内部凹陷表面相对于所述第二内侧壁横向偏移，所述内部凹陷表面实质上垂直于所述第二内侧壁及所述第三内侧壁中的每一个，且

所述盖具有外部定位唇缘，所述外部定位唇缘接合所述外部边沿的所述第二内侧壁，以将所述外部定位唇缘导引成接触所述本体的所述内部凹陷表面，且

所述外部定位唇缘附装到所述本体的所述内部凹陷表面。