[发明专利]一种双T型入口结构的平面弯曲被动式微混合器有效
申请号: | 201711253614.0 | 申请日: | 2017-12-02 |
公开(公告)号: | CN107970847B | 公开(公告)日: | 2020-10-27 |
发明(设计)人: | 刘赵淼;任彦霖;逄燕 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | B01F13/00 | 分类号: | B01F13/00;B01F3/08 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 沈波 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 入口 结构 平面 弯曲 被动 式微 混合器 | ||
本发明公开了一种双T型入口结构的平面弯曲被动式微混合器,属于微全分析系统、纳米粒子制备领域,包括一个连续相入口单元、两个离散相入口单元、液滴生成单元、三个阵列的液滴微混合单元、一段直通到结构和出口单元。液滴生成单元由双T型入口结构优化而来,在第一组份交汇口两侧,设置有缩口和扩口,保证液滴的稳定生成;在液滴融合位置处,设置弯曲融合结构,使两组分能够更加稳定的生成融合液滴。液滴微混合器由多个混合单元阵列而成,并在结尾处设置直通道结构,使出口单元远离微混合器主体,降低通道的制造难度,保障混合器的可靠性、耐用性。本发明进一步提高了液滴微混合器的稳定性和混合效率,有助于促进液滴微混合技术的发展。
技术领域
本发明属于微全分析系统、纳米粒子制备领域,主要涉及液滴微混合、液滴生成、液滴融合等技术,提供一种双T型入口结构的平面弯曲被动式微混合器。
背景技术
微流控集成了生物与化学领域中常涉及的样品制备、混合、分离、反应、检测等功能单元,以可控流体贯穿微流道形成的整个系统,最终实现常规生化实验室同类功能。微流控芯片技术以其体积小、效率高、成本低、易于集成等优势,在生物和化学领域有着广泛的应用前景。微混合器是微流控技术的重要组成部分,被广泛应用于生物分析、化学合成和临床测试等领域。液滴微混合是通过两相间界面将反应物溶质封装在液滴内部,防止通道壁面受污染。微流控芯片通道结构在微米量级,通道中的流体通常处于层流状态,提升混合效率、缩小混合器体积是该领域中的研究重点。
本发明属于被动式液滴微混合器,借助微通道的形貌特征来控制混合过程。相比主动式微混合器而言,被动式微混合器易于加工,使用更加方便。对被动式微混合器进行结构优化,进一步提高混合效率、缩小体积,一直是该技术的核心问题。
微液滴的生成方式、液滴内部的组分分布状态和流动状态均对液滴混合过程有重要影响,优化混合器的液滴生成结构是该领域的一项关键因素。双T型入口结构使两组分融合形成待混合液滴,防止液滴生成前发生反应。本发明在双T型入口结构的基础上,在第一组份离散相通道交汇结构处两侧分别增加突缩、突扩结构,进一步提高液滴尺寸的均一性;在第二组份离散相通道交汇结构处增加融合弯道,使液滴融合过程更加稳定。本发明所采用的通道结构对液滴微流控领域具有十分重要的价值。
发明内容
本发明是基于双T型入口结构微混合器,通过对第一组份交汇结构、两组分融合结构进行改进,提高液滴尺寸的均一性和融合的稳定性。改进型双T型入口结构简单、混合效率高、混合通道体积小,并能在下游微混合器中均一、稳定地生成混合液滴。
为实现上述目的,本发明采用的技术方案为一种双T型入口结构的平面弯曲被动式微混合器,该混合器包括连续相入口单元2、两个离散相入口单元1、液滴生成单元3、液滴微混合器4和出口单元5。两个离散相入口单元1与连续相入口单元2通过液滴生成单元3连接,液滴生成单元3通过液滴微混合器4与出口单元5连接。
连续相入口单元2设置在液滴生成单元3的上游,第一个离散相入口单元1设置在液滴生成单元3的中游,第二个离散相入口单元1设置在液滴生成单元3的下游。
连续相流体由连续相入口单元2注入,两种不同组份的离散相流体分别由两个离散相入口单元1注入。在第一个离散相入口单元1与液滴生成单元3连接的交汇口处,第一种组份的离散相流体受连续相剪切作用形成液滴,液滴沿液滴生成单元3运动并在下游与第二种组份的离散相液滴融合,形成待混合液滴。待混合液滴经过液滴微混合器4后,液滴微混合器4内部溶质与连续相流体充分混合,并从出口单元5流出。
连续相入口单元2为圆形储液池结构,并且为保证通道结构的稳定性,防止过高的压降导致通道破裂,圆形储液池通过弧形缩口结构与液滴沿液滴生成单元3连接。液滴沿液滴生成单元3为直通道结构,使第一种组份的离散相流体的液滴生成过程的稳定、连续。弧形缩口和液滴沿液滴生成单元3具有相同的截面高度,并且截面形状均为矩形。两个离散相入口单元1的结构形式相同,离散相入口单元1的截面高度小于连续相入口单元2的截面高度。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京工业大学,未经北京工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711253614.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。