[发明专利]一种分压力质谱计校准装置及方法有效
| 申请号: | 201711221169.X | 申请日: | 2017-11-29 |
| 公开(公告)号: | CN107991020B | 公开(公告)日: | 2020-11-27 |
| 发明(设计)人: | 李得天;孙雯君;成永军;习振华;袁征难;赵澜;董猛;郭美如 | 申请(专利权)人: | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号: | G01L27/00 | 分类号: | G01L27/00 |
| 代理公司: | 北京理工大学专利中心 11120 | 代理人: | 刘芳;仇蕾安 |
| 地址: | 730000 甘*** | 国省代码: | 甘肃;62 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 分压力 质谱计 校准 装置 方法 | ||
本发明提供一种分压力质谱计校准装置,主要由微调阀、活塞压力计、配样室、多个高纯气瓶、电容薄膜真空计、一级进样室、二级进样室、采样室、小孔、校准室、分离规及抽气系统构成;配样室分别与活塞压力计、电容薄膜真空计相连,配样室还通过微调阀与相互并联的多个高纯气瓶相连;配样室与一级进样室之间并联多个体积互不相同的采样室,一级进样室与二级进样室之间并联多个体积互不相同的采样室,二级进样室依次串联小孔、校准室;校准室分别与待校准的分压力质谱计和分离规相连;配样室、一级进样室、二级进样室及校准室均与抽气系统相连。本发明不仅能够按照客户需求对实际需要的混合气体进行配置,而且能够保证气体在校准过程中不发生变样。
技术领域
本发明涉及一种分压力质谱计校准装置及方法,属于真空计量技术领域。
背景技术
分压力质谱计广泛应用于工业生产各个领域,分压力质谱计的校准是真空计量领域的一个重要研究方向。文献“Robert E.Ellefson.Methods for in situ QMScalibration for partial pressure andomposition analysis.Vacuum,2014”中介绍了一种分压力质谱计校准装置,它复合了两种校准方法:(1)直接将已知组分的混合气体通过细管引入到校准室中,以电离真空计作为参考标准,通过一系列理论计算得到每种组分的分压力值;(2)先将100kPa左右的高压力混合气体引入到进样室中,再通过细管将混合气体引入到校准室中,以连接在进样室上的满量程为1kPa的电容薄膜真空计作为参考标准,通过理论计算得到每种组分的分压力值。这台分压力校准装置可以采用混合气体对分压力质谱计进行校准。
这种系统的不足之处是在于:(1)只能采用配制好的已知组分的混合气体进行校准,无法根据实际需要配制气体;(2)进样前(气体进入细管前)的气体状态为粘滞流状态,进样后气体状态变为分子流状态,导致混合气体成分在进样后发生变化,需要通过复杂的理论计算对校准结果加以修正;(3)采用的参考标准分别为电离真空计和电容薄膜真空计,导致其校准结果的测量不确定度较大。
发明内容
有鉴于此,本发明解决的技术问题是:克服现有校准装置和方法的不足之处,提供了一种分压力质谱计校准装置及方法,其不仅能够按照客户需求对实际需要的混合气体进行配置,而且能够将气体压力在进入小孔前衰减至分子流范围,从而保证气体在校准过程中不发生变样。
本发明的技术解决方案是:
一种分压力质谱计校准装置,主要由微调阀、活塞压力计、配样室、多个高纯气瓶、电容薄膜真空计、一级进样室、二级进样室、采样室、小孔、校准室、分离规及抽气系统构成;其中
所述配样室分别与活塞压力计、电容薄膜真空计相连,所述配样室还通过微调阀与相互并联的多个高纯气瓶相连;所述配样室与一级进样室之间并联多个体积互不相同的采样室,所述一级进样室与二级进样室之间并联多个体积互不相同的采样室,所述二级进样室依次串联小孔、校准室;所述校准室分别与待校准的分压力质谱计和分离规相连;所述配样室、一级进样室、二级进样室及校准室均与抽气系统相连。
较佳地,本发明所述抽气系统包括第一抽气系统、第二抽气系统和第三抽气系统。
较佳地,本发明所述的微调阀为超高真空全金属微调阀。
较佳地,本发明所述的活塞压力计测量精度为读数的0.0015%。
较佳地,本发明所述连接各部件之间的管路上设有阀门,所述阀门均为超高真空全金属角阀。
较佳地,本发明所述的配样室为SUS316L不锈钢球形结构,体积为10L。
较佳地,本发明所述电容薄膜真空计测量范围为10-2Pa—105Pa,测量精度为读数的0.08%。
较佳地,本发明并联于配样室和一级进样室之间的采样室有3个。
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