[发明专利]一种提高钕铁硼磁体磁性能的方法在审
| 申请号： | 201711211892.X | 申请日： | 2017-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN108269683A | 公开（公告）日： | 2018-07-10 |
| 发明（设计）人： | 蔡岭文;赵家成;张勇;王涌 | 申请（专利权）人： | 宁波金鸡强磁股份有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;H01F1/057;C23C10/30 |
| 代理公司： | 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(普通合伙) 33243 | 代理人： | 洪珊珊 |
| 地址： | 315000 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 钕铁硼磁体 磁体表面 激光加热 磁性能 磁性材料技术 重稀土化合物 稀土化合物 原材料加工 重稀土元素 薄片表面 加热处理 角落部位 时效处理 有效控制 反磁化 扩散量 涂覆量 涂覆 激光 | ||
1.一种提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，所述的方法包括如下步骤：
将磁体原材料加工成钕铁硼磁体薄片；
将稀土化合物涂覆到钕铁硼磁体薄片表面，进行激光加热处理；
将激光加热后的钕铁硼磁体薄片进行二级时效处理，得钕铁硼磁体成品。
2.根据权利要求1所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，所述的稀土化合物包括镨、钕、镝、铽、铁、铜、镓、铝中的一种或多种。
3.根据权利要求2所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，所述的稀土化合物为由镨、钕、镝、铽、铁、铜、镓、铝随意组合的二元化合物、三元化合物、四元化合物中的一种。
4.根据权利要求1所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，稀土化合物涂覆到钕铁硼磁体薄片表面的厚度为20-40μm。
5.根据权利要求1所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，激光加热处理中钕铁硼磁体薄片表面激光束截面积为0.5-0.8mm2。
6.根据权利要求1所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，激光加热处理时激光斑点处温度为700-950℃。
7.根据权利要求1所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，激光加热处理在真空度小于10-2Pa或保护气体的条件下进行。
8.根据权利要求7所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，所述的保护气体的压力为30-50kPa。
9.根据权利要求7或8所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，所述的保护气体为氩气或氦气。
10.根据权利要求1所述的提高钕铁硼磁体磁性能的方法，其特征在于，所述二级时效处理的温度为450-560℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波金鸡强磁股份有限公司，未经宁波金鸡强磁股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711211892.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种安全点火变压器
- 下一篇：一种还原渗Dy/Tb制备高性能钕铁硼磁体的方法
