[发明专利]一种传感器电极表面抗生物污染涂层的制备方法

权利要求书

1.一种传感器电极表面抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于光敏透明质酸的合成、抗生物污染涂层的制备的具体步骤如下：

（1）光敏透明质酸的合成

将透明质酸溶解在水中，搅拌至完全溶解，形成透明质酸水溶液；顺次加入4-二甲氨基吡啶、光敏单体、四丁基溴化铵(TBAB)，其中光敏单体与透明质酸中羧基含量的物质的量之比为0.2～100，4-二甲氨基吡啶与透明质酸重复单元数的物质的量之比为0.1～4，四丁基溴化铵与透明质酸重复单元数的物质的量之比为0.2～8，室温反应12 h～48 h；将反应液用丙酮沉淀后，转入透析袋隔水透析；将透析好的溶液冷冻干燥，得到光敏透明质酸，避光储存备用；

（2）抗生物污染涂层的制备

将步骤（1）中光敏透明质酸溶于水中，随后加入光引发剂，避光搅拌至形成澄清透明的光敏透明质酸水溶液；将光敏透明质酸涂覆在传感器电极表面，室温干燥后用紫外光照射使涂层发生交联，即在电极表面修饰抗生物污染涂层；将涂层修饰后的传感器电极在干燥环境下储存备用。

2.根据权利要求1所述的抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于所述步骤（1）中透明质酸利用光敏单体进行改性，光敏单体为甲基丙烯酸缩水甘油酯、甲基丙烯酸羟乙酯、甲基丙烯酸酐、甲基丙烯酸缩水甘油醚中的一种。

3.根据权利要求1所述的抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于所述步骤（2）中光敏透明质酸水溶液的浓度为0.5 mg/mL～10 mg/mL；所述光引发剂为水溶性光引发剂。

4.根据权利要求1所述的抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于所述步骤（2）中传感器电极基材可以为金、玻碳、碳浆、石墨烯、碳纳米管、碳纤维、ITO中的一种。

5.根据权利要求1所述的抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于所述步骤（2）中传感器电极在涂覆光敏透明质酸前需要预处理，预处理方法为：依次用丙酮、乙醇、去离子水超声清洗。

6.根据权利要求1所述的抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于所述步骤（2）中光敏透明质酸涂覆方式为旋涂、刮涂、电沉积中的一种。

7.根据权利要求1所述的抗生物污染涂层的制备方法，其特征在于所述步骤（2）中涂层需进行紫外光照射，照射条件为：紫外光源功率为10 W～1000 W， 光源与涂层距离为1 cm～10 cm，照射时间为5 min～60 min。