[发明专利]真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置在审
| 申请号： | 201711159436.5 | 申请日： | 2017-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN107972895A | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 周国锋;盖照亮;王大东;韩继广;陈丽;彭光东 | 申请（专利权）人： | 上海卫星装备研究所 |
| 主分类号： | B64G7/00 | 分类号： | B64G7/00 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司31236 | 代理人： | 庄文莉 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 真空 低温 环境 热流 密度 模拟 装置 | ||
1.一种真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，包括LED阵列机构、光束调整组件、红外灯阵列机构以及固定支架(8)；
LED阵列机构、光束调整组件、红外灯阵列机构依次设置在固定支架(8)内。
2.根据权利要求1所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，LED阵列机构包括LED阵列温度控制基板(1)、LED阵列安装基板(2)以及LED光源(3)；
所述LED阵列温度控制基板(1)设置在LED阵列安装基板(2)上；
所述LED光源(3)的数量为多个；
多个所述LED光源(3)交叉分布在LED阵列安装基板(2)上。
3.根据权利要求2所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，所述LED光源(3)的种类为6种；
6种所述LED光源(3)的波长的范围为300nm至1100nm。
4.根据权利要求1或3所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，所述光束调整组件包括反射腔(6)；
多个所述LED光源(3)交叉分布在反射腔(6)和LED阵列安装基板(2)之间；
所述反射腔(6)的外表面材料为石英玻璃。
5.根据权利要求1或4所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，红外灯阵列机构包括红外灯、红外灯反射罩(9)、红外灯绝缘件(10)、灯阵支撑架(4)以及支撑臂(7)；
所述红外灯设置在红外灯反射罩(9)内；
所述支撑臂(7)的数量为多个；
多个所述依次设置在反射腔(6)的底部；
所述灯阵支撑架(4)设置在支撑臂(7)上；
所述红外灯、红外灯反射罩(9)均通过红外灯绝缘件(10)连接在灯阵支撑架(4)上；
所述支撑臂(7)设置在固定支架(8)上。
6.根据权利要求1所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，所述固定支架(8)的外表面包覆有渗碳聚酯薄膜层。
7.根据权利要求7所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，其中一个所述支撑臂(7)、其中一个灯阵支撑架(4)均为环形；
所述红外灯反射罩(9)、红外灯沿周向设置在灯阵支撑架(4)上；
其中另一个所述支撑臂(7)、其中另一个灯阵支撑架(4)均为多边形；
其中一个灯阵支撑架(4)上的红外灯反射罩(9)和红外灯与其中另一个灯阵支撑架(4)上的红外灯反射罩(9)和红外灯沿纵向交错分布。
8.根据权利要求4所述的真空低温环境下的高热流密度外热流模拟装置，其特征在于，所述反射腔(6)的两侧沿横向设置有支撑臂(7)。
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