[发明专利]一种高雾度低光泽聚酯哑光母料及其制备

说明书

本发明涉及一种高雾度低光泽聚酯哑光母料及其制备，主要包括以下组分和重量份：聚酯80‑95、复合偶联改性碳酸钙5‑20；所述复配偶联改性包括60‑90%碳酸钙由PET‑co‑PGMA进行界面改性和10‑40%碳酸钙由聚醚型硅烷高分子偶联剂改性；所述碳酸钙由4种及其以上不同形态复配而成，所述碳酸钙尺寸为1‑10um。本发明选用不同形态碳酸钙进行复配，以膜级聚酯树脂为载体，通过熔融共混挤出法制备聚酯哑光母料，具有有效含量高；避免了涂布法的复杂工艺，减少了生产成本和溶剂污染；采用无机添加剂作为消光剂，通过表面处理和加强物理分散，添加剂在母料和薄膜制品中分散良好，制备的薄膜具有很好的哑光效果、柔度好、良品率高；产品有效含量更高，客户使用成本更低，具有优异的哑光效果。

技术领域

本发明涉及功能性高分子材料领域，具体涉及一种高雾度低光泽聚酯哑光母料及其制备。

背景技术

目前聚酯哑光薄膜最常用的制备方法有两种：（1）利用后涂布法，使用涂布机将消光涂布液涂覆于薄膜表面，经过薄膜电晕处理、凹辊涂布、干燥等工序。高品质涂布液技术及产品被日韩所垄断，在线涂布的工艺存在生产成本高且工艺复杂，费用高，而且在加工过程中因使用大量有机溶剂，极易造成环境污染，。溶剂回收困难、易污染环境等问题。（2）直接添加哑光母料，通过熔融共混挤出和原位聚合法都可以制备哑光母料，无后续涂布等工序、成本低。

原位聚合法制备的聚酯哑光切片是将消光剂直接添加在乙二醇中，经研磨沉降、过滤等工序，混有消光剂的乙二醇浆料在反应釜中聚合得到聚酯哑光切片。但是，原位聚合法消光剂有效含量受工艺限制，含量小于3%，制备的聚酯哑光薄膜的光泽度较高，只能用于生产普通聚酯哑光（雾度低、光泽度相对较高）薄膜。为了得到高哑度（高雾度低光泽）的聚酯薄膜，薄膜厂家通常在普通哑光薄膜或光膜表面进行一道降低表面光泽度的涂布处理工序。既降低生产效率、增加了不良品率，又增加了成本。

一种透明哑光聚酯薄膜的制造方法（申请号：200810044519.4）公开了一种透明哑光聚酯薄膜的制造方法，将丙烯酸透明哑光树脂与溶剂混合，配制成丙烯酸透明哑光树脂溶液；再将丙烯酸透明哑光树脂溶液经涂布工艺涂布在聚酯薄膜上，制得透明哑光聚酯薄膜。但是采用涂布方式制备哑光薄膜，主要缺点是对制膜、涂布设备要求较高，产生的溶剂易造成空气污染。

单面哑光聚酯薄膜及其制造方法（申请号：200810015273.8 ）公开了一种单面哑光聚酯薄膜，不需制备哑光母料，通过在哑光层加入尼龙高聚物和结晶成核助剂的方法制备哑光薄膜。通过尼龙和聚酯的结晶、微观的相分离达到哑光效果和透明率的作用，不需要准备哑光母料，工艺流程简单。但是在制膜时加入尼龙和结晶成核剂会引起薄膜结晶度过大，出现不易拉伸以及添加剂分散不均匀的弊端。而尼龙和聚酯的相容性并不好，也导致整个铸片发脆。在其说明书中也有体现，挡住铸片温度高于50℃时，由于铸片结晶度高，影响拉伸工艺。因此采用该方法制备的薄膜对于生产工艺要求高，良品率低，制备的薄膜柔度差。

哑光聚酯薄膜的制备方法（申请号：201110353645.X）公开了一种哑光聚酯薄膜的制备方法，该专利采用添加平均粒径为0.3～0.5μm 的高岭土和硫酸钡混合物为添加剂（消光剂），通过原位聚合法合成膜用聚酯，并用以制备哑光膜。但是采用原位聚合法的哑光聚酯切片，其哑光聚酯切片含量最高为3.5%，100%添加情况下制备的单层哑光膜的光泽度9.4，但目前的实际生产和应用中，基本没有单层薄膜，且添加量100%不具备市场化能力。另外，当两表层即哑光层占薄膜总量34%时，其光泽度为26.6，尚未表现出优异的哑光效果。

发明内容

本发明的目的在于提供一种高雾度低光泽聚酯哑光母料及其制备以解决现有制备聚酯哑光母料通常采用原位聚合法，有效含量受限制，因为含量高时影响聚合反应的正常进行，同时聚合法对消光剂的研磨过程导致消光剂尺寸分布宽，有效粒子数减少，因而原位聚合法制备的哑光母料性能较差等问题。