[发明专利]表面量测系统有效

专利信息
申请号: 201711136676.3 申请日: 2017-11-16
公开(公告)号: CN109798839B 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 邱奕昌;蔡政廷;潘世耀;杨兰昇;郭修玮;锺绍恩 申请(专利权)人: 致茂电子(苏州)有限公司
主分类号: G01B11/24 分类号: G01B11/24
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 215011 江苏省苏州市苏州高*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 表面 系统
【说明书】:

一种表面量测系统,用以量测具低反射的表面的待测物。表面量测系统包含结露装置与量测装置。结露装置用以形成一液体层于待测物的表面上。结露装置包含腔体、控温气体源与增湿气体源。腔体用以容纳待测物。控温气体源连接至腔体,用以提供控温气体至腔体中以控制待测物的温度。增湿气体源连接至腔体,用以提供水气至腔体中以形成液体层于待测物的表面上。量测装置包含平台、光源与影像撷取装置。平台用以放置具有液体层的待测物。光源用以提供光束以照射平台上的待测物。影像撷取装置用以侦测自平台上的待测物散射的光束。通过在表面上形成液体层,可增加光束照射于表面上的散射量。因此影像具有高信噪比,表面能够被精准量测与提升量测速度。

技术领域

发明是有关于一种表面量测系统。

背景技术

随着科技的进步,越来越多的电子产品使用透明材质(如玻璃)作为产品组件(如手机面板、手机机壳、透镜)。为了确保品质,透明组件可经由量测而测得其表面形貌。然而透明材质具有低反射率的问题,若要量到足够准确的影像,需要增加量测的曝光时间与/或光源强度。若组件内部或底部具有瑕疵,也可能被量测到,导致信号误判。另外,若组件表面为曲面,也会有多重反射的情况发生。

发明内容

本发明的一方面提供一种表面量测系统,用以量测具低反射的表面的待测物。表面量测系统包含结露装置与量测装置。结露装置用以形成一液体层于待测物的表面上。结露装置包含腔体、控温气体源与增湿气体源。腔体用以容纳待测物。控温气体源连接至腔体,用以提供控温气体至腔体中以控制待测物的温度。增湿气体源连接至腔体,用以提供水气至腔体中以形成液体层于待测物的表面上。量测装置包含平台、光源与影像撷取装置。平台用以放置具有液体层的待测物。光源用以提供光束以照射平台上的待测物。影像撷取装置用以侦测自平台上的待测物散射的光束。

在一或多个实施方式中,结露装置还包含导流结构,置于腔体中。导流结构用以将控温气体与水气均匀的导向待测物上。

在一或多个实施方式中,导流结构包含扩散板与整流板。扩散板置于控温气体源的出气口前。扩散板置于整流板与控温气体源之间。整流板具有多个贯穿孔,用以将控温气体与水气的流向均匀化。

在一或多个实施方式中,导流结构还包含集气板,置于扩散板与整流板之间,用以集中控温气体与水气。

在一或多个实施方式中,集气板具有一通道。通道的宽度自扩散板至整流板的方向渐缩。

本发明的另一方面提供一种表面量测系统,用以量测具低反射的表面的待测物。表面量测系统包含控温装置、增湿装置与量测装置。控温装置包含控温腔体与控温气体源。控温腔体用以容纳待测物。控温气体源连接至控温腔体,用以提供控温气体至控温腔体中以控制待测物的温度。增湿装置包含增湿腔体与增湿气体源。增湿腔体用以容纳已控温的待测物。增湿气体源连接至增湿腔体,用以提供水气至增湿腔体中以形成液体层于待测物的表面上。量测装置包含平台、光源与影像撷取装置。平台用以放置具有液体层的待测物。光源用以提供光束以照射平台上的待测物。影像撷取装置用以侦测自平台上的待测物散射的光束。

在一或多个实施方式中,控温装置还包含导流结构,置于控温腔体中。导流结构用以将控温气体均匀的导向待测物上。

在一或多个实施方式中,导流结构包含扩散板与整流板。扩散板置于控温气体源的出气口前。扩散板置于整流板与控温气体源之间。整流板具有多个贯穿孔,用以将控温气体的流向均匀化。

在一或多个实施方式中,导流结构还包含集气板,置于扩散板与整流板之间,用以集中控温气体。

在一或多个实施方式中,集气板具有一通道。通道的宽度自扩散板至整流板的方向渐缩。

上述实施方式的表面量测系统通过在待测物的表面上形成液体层,以增加光束照射于表面上的散射量。如此一来,测得的影像具有高信噪比,因此表面能够被精准量测,亦可提升量测速度。

附图说明

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