[发明专利]一种集成式双光路激光电离效应模拟系统在审
申请号: | 201711132250.0 | 申请日: | 2017-11-15 |
公开(公告)号: | CN107886820A | 公开(公告)日: | 2018-04-06 |
发明(设计)人: | 李沫;孙鹏;黄锋;王小凤;汤戈;代刚;张健 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院电子工程研究所 |
主分类号: | G09B23/18 | 分类号: | G09B23/18;G09B23/22 |
代理公司: | 成都天嘉专利事务所(普通合伙)51211 | 代理人: | 蒋斯琪 |
地址: | 621999 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 集成 式双光路 激光 电离 效应 模拟 系统 | ||
1.一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于:包括调整底座(Ⅰ),光源(Ⅱ),双光路衰减模块(Ⅲ),显微观察模块(Ⅳ),测试与存储模块(Ⅴ);其中:调整底座(Ⅰ),用于稳定支撑整个模拟系统;光源(Ⅱ)及双光路衰减模块(Ⅲ)用于产生双通道波长激光,并根据实际实验需求对两个通道的脉冲激光能量进行衰减;显微观察模块(Ⅳ)用于对半导体器件测试样品(20)进行成像,并对作用于半导体器件测试样品(20)的脉冲激光进行能量测量;测试与存储模块(Ⅴ)用于采集并记录半导体器件测试样品(20)辐射电离效应的响应电信号,通过控制精密位移平台来精确控制光斑作用于半导体器件测试样品(20)上的位置。
2.根据权利要求1所述的一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于,所述光源(Ⅱ)可同时产生波长为532nm和1064nm的脉冲激光,两个不同波长的脉冲激光分别从两通道水平出射,且每个通道都有独立控制的开关。
3.根据权利要求1或2所述的一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于,所述光源(Ⅱ)包括双波长脉冲激光器(1)和光路转折器(2),所述双波长脉冲激光器(1)和光路转折器(2)安装于一个遮光罩中;所述双波长脉冲激光器(1)用于产生波长分别为532nm和1064nm的两路脉冲激光,所述光路转折器(2)用于进行光路折叠,两路脉冲激光通过调节光路转折器(2)使其进入双光路衰减模块(Ⅲ)。
4.根据权利要求3所述的一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于,所述双光路衰减模块(Ⅲ)具体结构是:沿两路激光进入方向依次包括有安装于另一个遮光罩内的直角棱镜(3)、光路一、光路二和反射镜二(13)、合束棱镜(14);两路脉冲激光经过直角棱镜(3)反射后,1064nm的激光进入光路一后经反射镜二(13)射出,532nm的激光进入光路二再射出,射出的两路激光最后经合束棱镜(14)合束后反射出。
5.根据权利要求4所述的一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于,所述光路一、光路二分别对称位于沿直角棱镜(3)的两个反射角度方向上,光路一和光路二的结构相同,每个光路均包括位于直角棱镜(3)的反射方向上的反射镜一、位于反射镜一反射方向的第一级1/2λ波片、位于第一级1/2λ波片透射光方向的第一级偏振分光棱镜(6)、位于第一级偏振分光棱镜(6)的透射光方向的第二级1/2λ波片(7)、位于第二级1/2λ波片(7)透射光方向上的第二级偏振分光棱镜(8)、位于第二级偏振分光棱镜(8)反射光方向上的光束收集器一(9)、位于第一级偏振分光棱镜(6)的反射光方向的分光棱镜一(10)、位于分光棱镜一(10)透射光方向的激光能量计探头一(11)、位于分光棱镜一(10)反射光方向的光束收集器二(12);所述反射镜二(13)位于光路一的第二级偏振分光棱镜(8)透射光方向上,合束棱镜(14)位于光路二的第二级偏振分光棱镜(8)透射光方向上;一路激光经过反射镜二(13)并反射到合束棱镜(14),另一路激光经过光路二直接照射到合束棱镜(14),两路激光在合束棱镜(14)合成后射出到后续光路。
6.根据权利要求4所述的一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于,所述显微观察模块(Ⅳ)包括CCD摄像头(15)、指引光源(16)、激光能量计探头二(18)、分光棱镜二(17)、调焦机构、物镜转盘(19)、物镜;沿合束棱镜(14)出来的激光方向上,所述显微观察模块(Ⅳ)具体设置有分光棱镜二(17),分光棱镜二(17)上端设置有显微镜筒与指引光源(16)、CCD摄像头(15),分光棱镜二(17)的透射光方向上设置有激光能量计探头二(18),分光棱镜二(17)的反射光方向设置有物镜与物镜转盘(19);激光经过分光棱镜二(17)后,透射光到达激光能量计探头二(18),反射光经过物镜以及物镜转盘(19)对光斑进行扩束或者聚焦,光斑大小根据物镜倍数以及扩束镜倍数不同进行调节。
7.根据权利要求6所述的一种集成式双光路激光电离效应模拟系统,其特征在于,所述指引光源(16)在空间位置上依次经过分光棱镜二(17)、调焦机构、物镜转盘(19)、物镜后到达半导体器件测试样品(20)表面;指引光源(16)在分光棱镜二(17)上与脉冲激光合束后,到达半导体器件测试样品(20)表面上时,指引光源(16)与脉冲激光的光斑中心重合。
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