[发明专利]一种氧化铝基化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201711087723.X | 申请日： | 2017-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN109749631A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 吕志敏 | 申请（专利权）人： | 吕志敏 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266700 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 化学机械抛光液 蓝宝石衬底材料 氧化铝基 抛光 化学机械抛光 表面粗糙度 表面活性剂 抛光颗粒 水性介质 低损伤 可控制 抛光液 无残留 可控 | ||
【权利要求书】：
1.一种氧化铝基化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及百分含量：
抛光颗粒0.1～30wt％
表面活性剂0.01～10wt％
余量为pH调节剂和水性介质。
2.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光颗粒选自纳米氧化铝，所述抛光颗粒的粒径为10～1500nm。
3.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光颗粒的粒径为30～200nm。
4.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光颗粒的形状为球形。
5.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述表面活性剂选自聚氧乙烯硫酸钠、聚丙烯酸钠、聚氧乙烯醚磷酸酯、烷基醇聚氧乙烯基醚、十六烷基三甲基溴化铵、聚丙烯酸铵和聚乙烯吡咯烷酮中的一种或多种。
6.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述pH调节剂选自硝酸、磷酸、氢氧化钾、羟乙基乙二氨和四甲基氢氨中的一种或多种。
7.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液的pH值范围为1～11。
8.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述表面活性剂的含量为0.05～2wt％。
9.如权利要求1所述化学机械抛光液，其特征在于，所述抛光颗粒的含量为0.5～25wt％。
10.如权利要求1～9任一所述化学机械抛光液在蓝宝石衬底的CMP工艺上的应用。
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