[发明专利]用于制造偏光膜的方法与系统有效
| 申请号： | 201711064810.3 | 申请日： | 2017-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN107632335B | 公开（公告）日： | 2020-06-16 |
| 发明（设计）人： | 林鸿棋;郭建生;徐维廷 | 申请（专利权）人： | 住友化学股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 梁挥;祁建国 |
| 地址： | 日本国东京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 制造 偏光 方法 系统 | ||
1.一种用于制造偏光膜的方法，其特征在于，包括：
使一偏光膜前驱物通过一第一溶液；
利用与该第一溶液接触的一电极组，对该第一溶液进行一析出处理以形成一第二溶液；及
对该第二溶液进行一过滤处理以形成一第三溶液。
2.根据权利要求1所述的用于制造偏光膜的方法，其特征在于，更包括：
使该偏光膜前驱物通过与该第三溶液混合后的该第一溶液，或通过与该第三溶液混合后的该第二溶液。
3.根据权利要求1所述的用于制造偏光膜的方法，其特征在于，该第一溶液包括一第一屑体，该第二溶液包括自该第一屑体经析出处理而尺寸变大的一第二屑体。
4.根据权利要求3所述的用于制造偏光膜的方法，其特征在于，该第一屑体包括该偏光膜前驱物通过时所造成的屑体，该第二溶液包括自该第一屑体经析出处理而尺寸变大的一第二屑体，该过滤处理包括使用一过滤装置，该过滤装置具有尺寸大于该第一屑体的滤孔。
5.根据权利要求4所述的用于制造偏光膜的方法，其特征在于，该第一屑体的粒径范围为10nm至1000nm；及该第二屑体的粒径范围为2μm～10μm；及该滤孔的孔径为1μm至10μm。
6.根据权利要求1所述的用于制造偏光膜的方法，其特征在于，该第一溶液为含有碘离子的偏光膜染色溶液，或第一溶液为硼酸、碘化钾、碘化锌、或其组合。
7.根据权利要求1所述的用于制造偏光膜的方法，其特征在于，该电极组的电流值介于0.2至5.0安培，或该电极组用以进行一电凝法。
8.一种用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括：
一处理槽，包括一溶液；
一引导辊，用以传送一偏光膜前驱物通过该溶液；
一电极组，接触该偏光膜前驱物通过后的该溶液；及
一过滤装置，用以过滤与该电极组接触后的该溶液。
9.根据权利要求8所述的用于制造偏光膜的系统，其特征在于，包括一循环系统，在该处理槽的外侧并连通该处理槽，其中该循环系统包括该电极组与该过滤装置。
10.根据权利要求8所述的用于制造偏光膜的系统，其特征在于，该电极组设置在该处理槽之中。
11.根据权利要求8所述的用于制造偏光膜的系统，其特征在于，该电极组用以对该偏光膜前驱物通过后的该溶液进行一电凝法，或该电极组的电流值介于0.2安培至5.0安培。
12.根据权利要求8所述的用于制造偏光膜的系统，其特征在于，该过滤装置为一溢流装置，且该溢流装置更包括一过滤件及一引流板。
13.根据权利要求12所述的用于制造偏光膜的系统，其特征在于，该过滤件包含一过滤网，及/或一过滤膜，且该过滤膜的滤孔的孔径为1μm至10μm。
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