[发明专利]分子筛SCM-15、其合成方法及其用途

权利要求书

1.一种分子筛SCM-15，其特征在于，

所述分子筛具有如式“SiO₂·GeO₂”所示的示意性化学组成，其中硅锗摩尔比SiO₂/GeO₂≥1；

所述分子筛在其合成态的形式或者其焙烧后的形式中具有基本上如下表A-1或表A-2所示的X-射线衍射图谱，

表A-1

(a)＝±0.3°，(b)随2θ变化，

表A-2

a＝±0.3°。

2.根据权利要求1所述的分子筛SCM-15，其特征在于，所述X-射线衍射图谱还包括基本上如下表B-1或表B-2所示的X-射线衍射峰，

表B-1

(a)＝±0.3°，(b)随2θ变化，

表B-2

(a)＝±0.3°，

所述X-射线衍射图谱任选进一步包括基本上如下表所示的X-射线衍射峰，

(a)＝±0.3°。

3.根据权利要求1所述的分子筛SCM-15，其特征在于，硅锗摩尔比1≤SiO₂/GeO₂≤15。

4.根据权利要求1所述的分子筛SCM-15，其特征在于，硅锗摩尔比为2.5≤SiO₂/GeO₂≤5。

5.根据权利要求1所述的分子筛SCM-15，其特征在于，所述分子筛中不超过10％的Ge原子被至少一种非硅和锗的元素的原子取代。

6.根据权利要求5所述的分子筛SCM-15，其特征在于，所述非硅和锗的元素选自由硼、铝、锡、锆和钛组成的组中的至少一种。

7.一种分子筛SCM-15的合成方法，包括使包含硅源、锗源、氟源、有机模板剂和水或者由硅源、锗源、氟源、有机模板剂和水形成的混合物晶化以获得所述分子筛的步骤，其中所述有机模板剂选自4-吡咯烷基吡啶、或者结构式(A-1)、结构式(A-2)或结构式(A-3)所示的季铵形式，

在各式中，R₁和R₂各自独立地为H或者C_1-8烷基，X^-各自独立为卤素离子和氢氧根离子(OH^-)。

8.根据权利要求7所述分子筛SCM-15的合成方法，其特征在于，在各式中，R₁和R₂各自独立地为C_1-2烷基，X^-各自独立为氢氧根离子(OH^-)。

9.根据权利要求7所述分子筛SCM-15的合成方法，其特征在于，所述硅源选自由硅酸、硅胶、硅溶胶、硅酸四烷基酯和水玻璃组成的组中的至少一种；所述锗源选自由氧化锗、硝酸锗和四烷氧基锗组成的组中的至少一种；

以SiO₂为计的所述硅源、以GeO₂为计的所述锗源、以F为计的所述氟源、所述有机模板剂和水的摩尔比为1:(0至1):(0.1至2.0):(0.1至2.0):(3至30)。

10.根据权利要求7所述分子筛SCM-15的合成方法，其特征在于，以SiO₂为计的所述硅源、以GeO₂为计的所述锗源、以F为计的所述氟源、所述有机模板剂和水的摩尔比为1:(0.2至0.4):(0.6至1.0):(0.6至1.0):(5至15)。

11.根据权利要求7所述分子筛SCM-15的合成方法，其特征在于，所述晶化的条件包括：晶化温度131至210℃；晶化时间1至20天。