[发明专利]光学检测器、光谱检测器及使用其的光谱检测方法

权利要求书

1.一种光谱检测器，包括：

光栅面板，其包括：

具有第一周期的第一光栅图案；

具有与所述第一周期不同的第二周期的第二光栅图案，所述第二光栅图案与所述第一光栅图案分别位于所述光栅面板的不同区域中，所述不同区域沿所述光栅面板的光入射的表面彼此间隔开；以及

光出射表面，光通过所述光出射表面从所述光栅面板出射；以及光学测量面板，其被布置为面对所述光栅面板的所述光出射表面，并且被配置为测量根据穿过所述第一光栅图案的第一光的传播距离的所述第一光的强度变化，以及测量根据穿过所述第二光栅图案的第二光的传播距离的所述第二光的强度变化。

2.根据权利要求1所述的光谱检测器，其中所述第一光栅图案和所述第二光栅图案彼此平行。

3.根据权利要求1所述的光谱检测器，其中所述光学测量面板的接收从所述光出射表面出射的所述光的表面相对于所述光栅面板的所述光出射表面倾斜地布置。

4.根据权利要求1所述的光谱检测器，还包括距离调节器，其被配置为改变所述光学测量面板与所述光栅面板之间的距离，从而改变所述第一光的所述传播距离和所述第二光的所述传播距离。

5.根据权利要求1所述的光谱检测器，还包括处理器，其被配置为基于根据所述第一光的所述传播距离的所述第一光的所述强度变化以及根据所述第二光的所述传播距离的所述第二光的所述强度变化而获得入射到所述光栅面板上的光的至少一个波长谱。

6.根据权利要求5所述的光谱检测器，其中所述处理器还被配置为获得基于根据所述第一光的所述传播距离的所述第一光的所述强度变化的第一波长谱以及基于根据所述第二光的所述传播距离的所述第二光的所述强度变化的第二波长谱。

7.根据权利要求6所述的光谱检测器，其中所述处理器还被配置为确定所述第一波长谱与所述第二波长谱之间的差额是否大于或等于参考值。

8.根据权利要求7所述的光谱检测器，还包括角度调节器，其被配置为当所述第一波长谱与所述第二波长谱之间的所述差额大于或等于所述参考值时调节所述光学测量面板的在所述光从所述光出射表面出射之后接收所述光的表面的角度。

9.根据权利要求7所述的光谱检测器，其中所述处理器还被配置为基于算法计算所述第一波长谱和所述第二波长谱，并且当所述第一波长谱与所述第二波长谱之间的所述差额大于或等于所述参考值时调节所述算法。

10.根据权利要求5所述的光谱检测器，其中所述处理器还被配置为通过对根据所述第一光的所述传播距离的所述第一光的所述强度变化和根据所述第二光的所述传播距离的所述第二光的所述强度变化的每个执行傅立叶变换而获得入射到所述光栅面板上的光的波长谱。

11.根据权利要求1所述的光谱检测器，其中所述光栅面板还包括具有与所述第一光栅图案和所述第二光栅图案的周期不同的周期的至少一个附加光栅图案。

12.一种光谱检测方法，包括：

将光发射为入射到光栅面板上，所述光栅面板包括具有第一周期的第一光栅图案、具有与所述第一周期不同的第二周期的第二光栅图案、以及光出射表面，光通过所述光出射表面从所述光栅面板出射，其中所述第二光栅图案与所述第一光栅图案分别位于所述光栅面板的不同区域中，所述不同区域沿所述光栅面板的光入射的表面彼此间隔开；以及

通过使用面对所述光栅面板的所述光出射表面的光学测量面板测量根据穿过所述第一光栅图案的第一光的传播距离的所述第一光的强度变化以及根据穿过所述第二光栅图案的第二光的传播距离的所述第二光的强度变化。

13.根据权利要求12所述的光谱检测方法，其中所述第一光栅图案和所述第二光栅图案彼此平行。