[发明专利]反颌矫正装置及反颌矫正方法在审

专利信息
申请号: 201711022873.2 申请日: 2017-10-27
公开(公告)号: CN107693139A 公开(公告)日: 2018-02-16
发明(设计)人: 岳利霞;张淑豪 申请(专利权)人: 中国人民解放军总医院
主分类号: A61C7/08 分类号: A61C7/08;A61N1/36;A61C7/10
代理公司: 北京京万通知识产权代理有限公司11440 代理人: 齐晓静
地址: 100853*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 矫正 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种反颌矫正装置,其包括支座、上颌座;

所述支座形成为圆弧形,用于垂直地在使用者睡觉时放置在床上,使得使用者的头部位于圆弧形的支座的中心位置;所述支座内侧设置有多个电磁铁,所述多个电磁铁沿着所述支座的圆弧形分布;所述支座进一步设置有朝向支座下方的红外摄像头;所述红外线摄像头对准使用者的头部;

所述支座上还包括控制单元、电磁铁驱动电路;控制单元自所述红外线摄像头接收使用者的头部图像,由此确定使用者的面部朝向,根据面部朝向,控制单元控制电磁铁驱动电路向与使用者的面部正对的电磁铁供电而产生磁力;

所述上颌座包括本体和牙套;所述本体形成呈弧形上凸的形状,对应于使用者的上颚的弧线形状;所述本体由刚性硬质材料制成;所述牙套设置在所述本体两侧,用于插入使用者的牙齿,由此,通过所述牙套将所述上颌座贴合使用者的口腔上颚而固定在使用者的口腔内;

所述本体前端内部形成有顶柱容纳空间,顶柱容纳空间包括腔室和通道,腔室完全包裹在所述本体内;所述通道一端与所述腔室连通,另一端延伸至所述本体的前端而与外部连通;所述顶柱容纳空间中容纳有顶柱;顶柱包括挡块、支柱和顶块;挡块形成在支柱的第一端,顶块形成在支柱的第二端;挡块容纳在所述腔室中并可以在腔室中滑动,挡块的横截面积大于所述通道的横截面积;支柱自通道中穿过而延伸到所述本体外部,由此使得顶块位于本体外部;支柱可在所述通道中滑动;

所述顶块由铁磁性物质构成;顶块受到所述电磁铁的吸引使得顶柱的一部分自顶柱容纳空间中滑出,由此顶块抵靠在使用者的上颌的端部,向上颌的端部施加压力,刺激上颌向外生长,以纠正反颌。

2.如权利要求1所述的反颌矫正装置,其特征在于:

所述顶块形成为椭圆球体。

3.如权利要求1所述的反颌矫正装置,其特征在于:

通过所述电磁铁的电流为脉冲式电流,由此所述电磁铁对所述顶块施加脉冲式变化的力,顶块对所述上颌顶端也产生脉冲式的压力。

4.如权利要求3所述的反颌矫正装置,其特征在于:

所述脉冲式电流的波形为正弦波或锯齿波。

5.如权利要求1所述的反颌矫正装置,其特征在于:

所述顶柱容纳空间为一个。

6.如权利要求1所述的反颌矫正装置,其特征在于:

所述顶柱容纳空间为两个。

7.如权利要求1所述的反颌矫正装置,其特征在于:

所述挡块与所述腔室之间设置有弹簧,所述弹簧向所述顶柱施加向外的推力。

8.一种反颌矫正方法,其通过支座、上颌座进行反颌矫正;

在使用者的口腔内贴合使用者的上颚而安装上颌座,上颌座内可滑动地安装有可向前滑动的顶柱,顶柱的前端由铁磁性物质形成;顶柱前端抵靠在使用者上颌的下端;

绕使用者的头部通过支座设置多个电磁铁,使得所述多个电磁铁所在的平面与使用者的头部的纵向轴线垂直;

通过红外线摄像头确定使用者的面部朝向,根据该面部朝向,选择性地使得与使用者的面部正对的电磁铁工作,由此顶柱的铁磁性物质受到该电磁铁的吸引而向使用者的上颌的下端施加压力,由此刺激上颌向外生长。

9.如权利要去7所述的反颌矫正方法,其特征在于:

所述电磁铁上通过的电流为脉冲式电流,由此在使用者的上颌的下端作用的压力的脉冲式压力。

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