[发明专利]一种等离子有机废气净化设备在审
| 申请号: | 201710981572.6 | 申请日: | 2017-10-20 |
| 公开(公告)号: | CN107930355A | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
| 发明(设计)人: | 张登峰 | 申请(专利权)人: | 东莞市华生电镀机械设备有限公司 |
| 主分类号: | B01D53/32 | 分类号: | B01D53/32;B01D53/44 |
| 代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司44218 | 代理人: | 陈培琼 |
| 地址: | 523000 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 等离子 有机 废气 净化 设备 | ||
技术领域
本发明涉及一种净化设备,具体为一种等离子有机废气净化设备,属于等离子废气处理应用领域。
背景技术
等离子体内部产生富含极高化学活性的粒子,如电子、离子、自由基和激发态分子等。等离子体降解有机废气是利用这些高能电子、自由基等活性粒子和废气中的污染物作用,使污染物分子在极短的时间内发生分解,并发生后续的各种反应以达到分解污染物的目的。废气中的污染物质与这些具有较高能量的活性基团发生反应,最终转化为CO2和H2O等物质,从而达到净化废气。
但是现有的等离子有机废气净化设备在使用时仍存在一些不足。现有的等离子有机废气净化设备工作效率不高,工作中不能根据废气的类型控制离子的数量,易浪费大量的资源,废气中的杂质难以清除。
发明内容
本发明的目的就在于为了解决上述问题而提供一种等离子有机废气净化设备。
本发明通过以下技术方案来实现上述目的,一种等离子有机废气净化设备,包括箱体、等离子电场工作结构和高压发射装置,所述箱体一端设置有进风口,且所述箱体另一端设置有出风口,所述箱体内部一端连接有若干个等离子电场工作结构,所述箱体内部另一端安装有高压发射装置,所述箱体外部一侧安装有开关按钮装置,且所述箱体内部底端靠近所述高压发射装置一侧安装有控制电源;
所述等离子电场工作结构内部横向连接有若干个负极导轨,且所述负极导轨两端均套装有若干个负极板,所述等离子电场工作结构内部两侧均纵向连接有正极导杆,两个所述正极导杆之间连接有若干个正极板,所述进风口内部安装有前置过滤器,且所述出风口内部安装有后置过滤器,所述前置过滤器一端连接有若干个离子器,且所述后置过滤器靠近所述离子过滤器一端连接有油污收集区。
优选的,为了使正极板不直接与箱体接触,受力均匀,且工作中电子不会进入箱体内部导致电子流失,所述正极板一侧通过若干个绝缘陶瓷连接箱体,且绝缘陶瓷与正极导杆呈平行设置。
优选的,为了使箱体内部的等离子电场工作结构工作情况便于查看,所述箱体靠近等离子电场工作结构一侧设置有盖板,且盖板外部连接有两组把手。
优选的,为了使负极板和正极板上的离子在工作中能相互之间结合,方便与废气中的物质发生反应,所述负极板在负极导轨上与正极板呈平行设置,且负极板和正极板在等离子电场工作结构内部呈相互交错设置。
优选的,为了使工作中废气先经过离子器的内部,然后废气进入油污收集区后能全面的被吸收,所述油污收集区内部的电场正负区交错设置,且离子器设置在油污收集区和前置过滤器之间。
优选的,为了使开关按钮装置可以控制离子器和控制电源的工作,使设备操作性能更好,所述控制电源和离子器通过内部线路与开关按钮装置均呈电性连接。
本发明的有益效果是:通过在箱体内部安装若干个交错设置的正极板和负极板,且在正极板一端连接绝缘陶瓷是,使得工作中离子在正极板和负极板之间发生反应更加充分均匀,能使废气内部的离子除去的更加彻底。两级过滤器增加了对废气的净化,净化效果更好,除污的能力更强,工作效率提高。离子的产生可自由的控制,工作中可以根据实际的需要调整离子的数量,能充分的利用资源,避免资源的浪费。内部增加油污收集区,使得废气中的油污可以高效的除去,提高了废气的净化效果。该设备工作效率高,操控性强,工作中可以快速除去废气中的杂质。
附图说明
图1为本发明整体结构示意图。
图2为本发明等离子电场工作结构内部结构示意图。
图3为本发明箱体外部结构示意图。
图4为本发明等离子电场工作结构示意图。
图中:1、箱体;2、等离子电场工作结构;3、高压发射装置;4、开关按钮装置;5、出风口;6、控制电源;7、进风口;8、负极板;9、负极导轨;10、正极板;11、正极导杆;12、绝缘陶瓷;13、把手;14、盖板;15、后置过滤器;16、油污收集区;17、离子器;18、前置过滤器。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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