[发明专利]一种台灯在审
申请号: | 201710962577.4 | 申请日: | 2017-10-17 |
公开(公告)号: | CN107477539A | 公开(公告)日: | 2017-12-15 |
发明(设计)人: | 席光凤 | 申请(专利权)人: | 席光凤 |
主分类号: | F21V23/04 | 分类号: | F21V23/04;F21V19/00;F21V33/00;F21V21/26 |
代理公司: | 中山市铭洋专利商标事务所(普通合伙)44286 | 代理人: | 邹常友 |
地址: | 528400 广东省中山市港*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 台灯 | ||
技术领域
本发明涉及一种台灯。
背景技术
现有的台灯的灯罩都是固定在灯杆上,不能根据实际情况改变灯源的角度;同时现有的台灯的灯源亮度一般是不变的,不能根据实际环境的亮度进行调节;而且现有的台灯的充电线与台灯是一体的,不便在无充电装置的地方使用;并且现有的台灯的按钮都是结构控制开关,易因开关的损坏导致控制失灵。在实际应用中,如果我们在光源昏暗的时候化妆或拍照时,往往不能有较好的视觉效果,导致妆容或面容过淡或过暗,不能还原出自然光源下的正常妆容,影响妆容的整体效果;同时如果光源过亮的话,导致我们不能直视光源,也不能进行近距离的描画妆容。
发明内容
针对上述的缺陷,本发明提出了一种可以随意调节光源的角度和亮度的台灯,便于用户进行普通照明和梳妆照明,其具体技术内容如下:
一种台灯,其包括:底座、立杆和灯体,所述立杆与灯体之间活动连接,具体为所述立杆与灯体底面中央枢转连接以让所述灯体由绕枢转轴在竖直面上转动,所述灯体内设有主光源,所述主光源的光向灯体底面方向输出,所述灯体的顶面为镜面,且于镜面的周边设有环状布局的副光源。
于本发明的一个或多个实施例中,所述副光源为包围镜面的环状光源。
于本发明的一个或多个实施例中,所述底座的顶面边缘上翘以形成盘状的置物空间。
于本发明的一个或多个实施例中,所述灯体呈倒扣的圆盘状,其内侧中央设有与所述立杆相配合的连接柱,所述连接柱由与立杆的连接处起朝灯体呈外扩状延伸,当灯体翻转至下限位置时令镜面与水平面之间呈45-60度夹角。
于本发明的一个或多个实施例中,所述灯体不透光,其外侧设有与灯体形状相符的透明或半透明灯罩,所述灯罩下缘超出灯体下缘。
于本发明的一个或多个实施例中,所述镜面处设置有开关键位,用于实现主光源和副光源的开关或切换。
于本发明的一个或多个实施例中,所述镜面处设置有调光键位,用于对主光源和副光源的亮度进行调节。
于本发明的一个或多个实施例中,所述底座的底面设有若干防滑软垫。
本发明与现有技术相比,具有如下有益效果:
1)灯体由立杆支撑并能绕枢转轴在竖直面上转动,根据实际情况任意调节灯体角度,特别地,灯体设置有主、副光源,满足普通照明和化妆照明的需求,所述灯体呈倒扣的圆盘状,其内侧中央设有与所述立杆相配合的连接柱,所述连接柱由与立杆的连接处起朝灯体呈外扩状延伸,当灯体翻转至下限位置时令镜面与水平面之间呈45-60度夹角;
2)将灯体的控制键简约化并设置于镜面之上,具体包括用于实现主光源和副光源的开关或切换的开关键位,和用于对主光源和副光源的亮度进行调节的调光键位;便于用户操作,随意开关光源和调节光源的亮度,以便更好地适应现实情况;
3)所述底座的顶面边缘上翘以形成盘状的置物空间,可以用于放置化妆品或小件饰物,紧贴用户化妆需求。
附图说明
图1为本发明台灯的结构示意图一。
图2为本发明台灯的结构示意图二。
图3为本发明台灯的结构示意图三。
图4为本发明台灯的结构示意图四。
具体实施方式
如下结合附图1至4,对本申请方案作进一步描述:
一种台灯,其包括:底座1、立杆2和灯体3,所述立杆2与灯体3之间活动连接,具体为,所述立杆2与灯体3底面中央枢转连接以让所述灯体3由绕枢转轴在竖直面上转动,所述灯体3内设有主光源31,所述主光源31的光向灯体3底面方向输出,所述灯体3的顶面为镜面32,且于镜面32的周边设有环状布局的副光源33,所述副光源33为包围镜面32的环状光源。所述底座1的顶面边缘上翘以形成盘状的置物空间10,所述底座1的底面设有若干防滑软垫11。所述灯体3呈倒扣的圆盘状,其内侧中央设有与所述立杆2相配合的连接柱34,所述连接柱34由与立杆2的连接处起朝灯体3呈外扩状延伸,当灯体3翻转至下限位置时令镜面32与水平面之间呈45-60度夹角。所述灯体3不透光,其外侧设有与灯体3形状相符的透明或半透明灯罩35,所述灯罩35下缘超出灯体3下缘。所述镜面32处设置有开关键位41,用于实现主光源31和副光源33的开关或切换;所述镜面42处设置有调光键位,用于对主光源31和副光源33的亮度进行调节。
上述优选实施方式应视为本申请方案实施方式的举例说明,凡与本申请方案雷同、近似或以此为基础作出的技术推演、替换、改进等,均应视为本专利的保护范围。
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