[发明专利]一种装修装潢填缝材料在审

专利信息
申请号: 201710944400.1 申请日: 2017-09-30
公开(公告)号: CN107474480A 公开(公告)日: 2017-12-15
发明(设计)人: 杨泽山 申请(专利权)人: 桐城市桐佳装饰有限公司
主分类号: C08L61/24 分类号: C08L61/24;C08L83/04;C08L33/02;C08K13/02;C08K3/36;C08K3/26;C08K3/34;C08K3/22;C08K5/053
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司11212 代理人: 沈尚林
地址: 231400 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 装修 装潢 材料
【说明书】:

技术领域

发明涉及装修材料领域,具体涉及一种装修装潢填缝材料。

背景技术

建材是土木工程和建筑工程中使用的材料的统称。可分为结构材料、装饰材料和某些专用材料。结构材料包括木材、竹材、石材、水泥、混凝土、金属、砖瓦、陶瓷、玻璃、工程塑料、复合材料等;装饰材料包括各种涂料、油漆、镀层、贴面、各色瓷砖、具有特殊效果的玻璃等;专用材料指用于防水、防潮、防腐、防火、阻燃、隔音、隔热、保温、密封等。

装修装潢填缝材料,是一种装修装潢材料,主要起粘结等各种作用。

发明内容

本发明的目的在于提供一种装修装潢填缝材料。

本发明的目的可以通过以下技术方案实现:

一种装修装潢填缝材料,包括以下重量份的原料:脲醛树脂40-60份、石英砂15-25份、碳酸钙15-30份、负离子粉5-15份、聚二甲基硅氧烷0.2-0.6份、聚丙烯酸钠1-3份、硅藻土10-15份、凹凸棒粉8-10份、纳米二氧化钛0.2-1份、甘油0.2-1份、山梨醇0.2-1份、四丁基锡2-4份、三氧化二铝2-4份、丁氧基钛2-4份、钛酸丁酯2-4份。

所述的一种装修装潢填缝材料,包括以下重量份的原料:脲醛树脂50份、石英砂20份、碳酸钙25份、负离子粉10份、聚二甲基硅氧烷0.5份、聚丙烯酸钠2份、硅藻土12份、凹凸棒粉10份、纳米二氧化钛0.5份、甘油0.5份、山梨醇0.5份、四丁基锡3份、三氧化二铝3份、丁氧基钛3份、钛酸丁酯3份。

制作方法包括以下步骤:

A、按所述原料的重量份数比称取各组分;

B、将所述原料各组分在160-275℃温度条件下混合融合,搅拌20-30分钟,冷却成混合基料;

C、将所述混合基料置于造粒设备中进行造粒,得到粉状或粉粒状聚合物。

本发明的有益效果:本发明的装修装潢填缝材料,施工简便,兑水搅匀即可使用,容易填接饱满,不收缩,与各种材质相溶性好、易干燥、不泛黄、粘结力强、抗爆裂,并能持久释放负离子。

具体实施方式

下面结合具体实施例对本发明作进一步详细描述。

实施例1

一种装修装潢填缝材料,包括以下重量份的原料:脲醛树脂40份、石英砂15份、碳酸钙15份、负离子粉5份、聚二甲基硅氧烷0.2份、聚丙烯酸钠1份、硅藻土10份、凹凸棒粉8份、纳米二氧化钛0.2份、甘油0.2份、山梨醇0.2份、四丁基锡2份、三氧化二铝2份、丁氧基钛2份、钛酸丁酯2份。

制作方法包括以下步骤:

A、按所述原料的重量份数比称取各组分;

B、将所述原料各组分在160-275℃温度条件下混合融合,搅拌20-30分钟,冷却成混合基料;

C、将所述混合基料置于造粒设备中进行造粒,得到粉状或粉粒状聚合物。

实施例2

一种装修装潢填缝材料,包括以下重量份的原料:脲醛树脂60份、石英砂25份、碳酸钙30份、负离子粉15份、聚二甲基硅氧烷0.6份、聚丙烯酸钠3份、硅藻土15份、凹凸棒粉10份、纳米二氧化钛1份、甘油1份、山梨醇1份、四丁基锡4份、三氧化二铝4份、丁氧基钛4份、钛酸丁酯4份。

制作方法包括以下步骤:

A、按所述原料的重量份数比称取各组分;

B、将所述原料各组分在160-275℃温度条件下混合融合,搅拌20-30分钟,冷却成混合基料;

C、将所述混合基料置于造粒设备中进行造粒,得到粉状或粉粒状聚合物。

实施例3

一种装修装潢填缝材料,包括以下重量份的原料:脲醛树脂50份、石英砂20份、碳酸钙25份、负离子粉10份、聚二甲基硅氧烷0.5份、聚丙烯酸钠2份、硅藻土12份、凹凸棒粉10份、纳米二氧化钛0.5份、甘油0.5份、山梨醇0.5份、四丁基锡3份、三氧化二铝3份、丁氧基钛3份、钛酸丁酯3份。

制作方法包括以下步骤:

A、按所述原料的重量份数比称取各组分;

B、将所述原料各组分在160-275℃温度条件下混合融合,搅拌20-30分钟,冷却成混合基料;

C、将所述混合基料置于造粒设备中进行造粒,得到粉状或粉粒状聚合物。

以上内容仅仅是对本发明所作的举例和说明,所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代,只要不偏离发明的构思或者超越本权利要求书所定义的范围,均应属于本发明的保护范围。

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